J 1996

Structural characterization of reactive ion-etched semicond uctor nanostructures using x-ray reciprocal space mapping

BAUER, G., A. DARHUBER a Václav HOLÝ

Základní údaje

Originální název

Structural characterization of reactive ion-etched semicond uctor nanostructures using x-ray reciprocal space mapping

Autoři

BAUER, G., A. DARHUBER a Václav HOLÝ

Vydání

Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 1996

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/96:00000410

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta
Změněno: 20. 3. 2000 07:14, prof. RNDr. Václav Holý, CSc.

Návaznosti

MSM 143100002, záměr
Název: Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur