J 2001

Effect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers - X-ray comparative study

ANOPCHENKO, A., M. JERGEL, E. MAJKOVA a V. HOLY

Základní údaje

Originální název

Effect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers - X-ray comparative study

Autoři

ANOPCHENKO, A., M. JERGEL, E. MAJKOVA a V. HOLY

Vydání

Physica B, Amsterdam, Elsevier Science, 2001, 0921-4526/00

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/01:00005191

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

UT WoS

000171072500003
Změněno: 16. 1. 2002 08:25, prof. RNDr. Václav Holý, CSc.

Anotace

V originále

Effect of substrate heating and ion beam polishing on the interface quality in Mo/Si multilayers - X-ray comparative study

Návaznosti

GA202/00/0354, projekt VaV
Název: Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
Investor: Grantová agentura ČR, Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek