2004
In situ analysis of PMPSi by spectroscopic ellipsometry and XPS
ČECHAL, Jan, Petr TICHOPÁDEK, Alois NEBOJSA, Olga BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ, Michal URBÁNEK et. al.Základní údaje
Originální název
In situ analysis of PMPSi by spectroscopic ellipsometry and XPS
Název česky
Analýza PMPSi metodou spektroskopické elipsometrie a XPS
Autoři
ČECHAL, Jan (203 Česká republika), Petr TICHOPÁDEK (203 Česká republika), Alois NEBOJSA (203 Česká republika), Olga BONAVENTUROVÁ ZRZAVECKÁ (203 Česká republika, garant), Michal URBÁNEK (203 Česká republika), Jiří SPOUSTA (203 Česká republika), Karel NAVRÁTIL (203 Česká republika) a Tomáš ŠIKOLA (203 Česká republika)
Vydání
Surface and Interface Analysis, USA, John Wiley & Sons, 2004, 0142-2421
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor
Impact factor: 1.209
Kód RIV
RIV/00216224:14310/04:00010399
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000223652500140
Klíčová slova anglicky
spectroscopic ellipsometry; x-ray photoelectron spectroscopy; XPS; polysilanes; PMPSi
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 4. 1. 2009 10:30, Mgr. Olga Fikarová Zrzavecká
V originále
In-situ monitoring of the UV-light and thermal treatment of PMPSi thin films by real-time spectroscopic ellipsometry and XPS is reported. The films were treated both under ultrahigh vacuum and oxygen atmosphere. The results of this study indicate that the Si-Si bonds in the polymer main chain were primarily broken at the UV-light treatment. However, the Si radicals recombined into the polymer-like chains causing no remarkable chemical shift. The UV-light treatment under enhanced sample temperature (~80C) in oxygen atmosphere resulted in the more intense degradation of the PMPSi film. This can be related to cutting off the volatile methyl groups from the polymer main chains.
Česky
Sledovali jsme působení UV záření a zvýšené teploty na tenké vrstvy PMPSi v reálném čase pomocí spektroskopické elipsometrie a XPS. Tyto dva vlivy byly aplikovány na vrstvy v prostředí vysokého vakua a v kyslíkové atmosféře. Z výsledků této studie vyplývá, že Si-Si vazby, tvořící páteř polymeru, jsou rozbíjeny především působením UV záření. Po rozbití vazeb a následném zesíťování polymeru nedochází ke zpětnému posunu v elipsometrických spektrech. Působení UV záření a současné zahřívání vzorku na teplotu okolo 80C v kyslíkové atmosféře vede k silnější degradaci vrstvy PMPSi. To může být spojeno s uvolněním methylových skupin od páteře polymeru.
Návaznosti
| MSM 262100002, záměr |
|