LI, J.H., G. SPRINGHOLZ, G. STANGL, H. SEYRINGER, Václav HOLÝ, F. SCHAFFLER a G. BAUER. Strain relaxation and surface morphology of compositionally graded Si/SiGe buffers. J. Vac. Sci & Technol. 1998, roč. 1998, B16, s. 1610-1615.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Strain relaxation and surface morphology of compositionally graded Si/SiGe buffers
Autoři LI, J.H., G. SPRINGHOLZ, G. STANGL, H. SEYRINGER, Václav HOLÝ, F. SCHAFFLER a G. BAUER.
Vydání J. Vac. Sci & Technol. 1998.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/98:00000773
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Změnil Změnil: prof. RNDr. Václav Holý, CSc., učo 1656. Změněno: 20. 3. 2000 06:51.
Návaznosti
VS96102, projekt VaVNázev: Laboratoř tenkých vrstev a nanostruktur
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Laboratoř tenkých vrstev a nanostruktur
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 07:16