DANIEL, A., Václav HOLÝ a G. BAUER. GID study of strains in Si due to patterned SiO2. J. Phys.D.: Appl. Phys. Velká Britanie: IOP Publishing Ltd, 2001, roč. 34, 10A, s. 197-202. ISSN 0022-3727.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název GID study of strains in Si due to patterned SiO2
Autoři DANIEL, A., Václav HOLÝ a G. BAUER.
Vydání J. Phys.D.: Appl. Phys. Velká Britanie, IOP Publishing Ltd, 2001, 0022-3727.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 1.260
Kód RIV RIV/00216224:14310/01:00005199
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000169093700042
Změnil Změnil: prof. RNDr. Václav Holý, CSc., učo 1656. Změněno: 16. 1. 2002 08:26.
Anotace
GID study of strains in Si due to patterned SiO2
Návaznosti
GA202/00/0354, projekt VaVNázev: Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
Investor: Grantová agentura ČR, Procesy samouspořádání rozhraní při epitaxním růstu polovodičových supermřížek
VytisknoutZobrazeno: 19. 9. 2024 21:40