1 J. Humlíček FKLii, spring 2021/2022 in addition: group theory (7-7 weeks) Condensed matter physics II -- semiconductors 1. Introduction 1931, Wolfgang Pauli → Rudolf Peierls: “Ueber Halbleiter sollte man nicht arbeiten, das ist eine Schweinerei, wer weiss, ob es überhaupt Halbleiter gibt.” !!! 1947, Bardeen, Brattain, Shockley: transistor. Usual definition of a semiconductor:  specific resistivity ~ (10-3 – 108 ) cm, dropping with increasing temperature,  "gap" in the electron bandstructure ( Eg), forbidden energies) of (0 – ~4) eV. Problems of the resistivity/conductivity: o temperature dependence o impurities („doping“), o defects („bad metals“), o ... Problems of the gap value: o ill-defined upper limit (e.g., semiconducting diamond with Eg ~ 6 eV), o ill-defined Eg, the bandstructure can be merely a rough approximation of the electronic structure ("states within the forbidden gap"). 2 Elemental semiconductors Column IV in the periodic table (4 valence electrons in isolated atom, diamond structure: C Si Ge -Sn (gray tin) – semimetal, Eg = 0 („Chemical“) variant of the periodic table: Interactive, e.g. (identification of erroneous statements should be rater easy), cf. with information from different sources/languages. Křemík Zdroj: http://www.tabulka.cz/prvky/ukaz.asp?id=14 název Křemík latinsky Silicium anglicky Silicon francouzsky Silicium německy Silicium značka Si protonové číslo 14 3 relativní atomová hmotnost 28,0855 Paulingova elektronegativita 1,9 elektronová konfigurace [Ne] 3s2 3p2 1s2 2s2 2p6 3s2 3p2 teplota tání 1687 K, 1414°C teplota varu 3173 K, 2900°C skupina 14 (IV.A) perioda 3 skupenství (při 20°C) pevné oxidační čísla ve sloučeninách -4, +2, +4 Objevitel Rok objevu Objevitel 1824 Jöns Jakob Berzelius (1779-1848) Výskyt Křemík je po kyslíku druhým nejrozšířenějším prvkem na Zemi, ale vyskytuje se pouze ve sloučeninách (např. křemičitany, hlinitokřemičitany). Vyskytuje se v živých organizmech, a proto je to také biogenní prvek. Např. přesličky obsahují křemen (SiO2 - oxid křemičitý) a křemičité kyseliny ve svých buněčných stěnách. Vlastnosti Je to modrošedý a krystalický polokov, který má částečně kovový lesk a jehož struktura je velmi podobná diamantu. Základem molekuly křemíku je čtyřstěn SiO4, který se může spojovat do řetězců, cyklů, vrstev a do 3D struktury. Vazba křemík - kyslík je velmi pevná, a proto jsou jeho kyslíkaté sloučeniny hodně stálé a tudíž hodně rozšířené. Tvrdý a křehký křemík je za normálních podmínek velmi málo reaktivní a odolává působení vzdušného kyslíku i vody, protože se jeho povrch pokrývá velmi tenkou vrstvičkou oxidu křemičitého (SiO2). Velmi dobře také odolává roztokům kyselin (kromě HNO3 a HF), ale snadno se rozpouští v horkých vodných roztocích alkalických hydroxidů: Si + 4NaOH → Na4SiO4 + 2H2 SiO2 + 4HF → SiF4 + 2H2O Je to velice dobrý polovodič a s ostatními prvky se slučuje až za vysokých teplot. Laboratorní příprava Reakcí křemene a hliníku - tzv. aluminotermií (viz. informace o hliníku): 3SiO2 + 4Al → 3Si + 2Al2O3 4 Průmyslová výroba Křemík se průmyslově vyrábí v elektrické obloukové peci redukcí křemene velmi čistým koksem za přítomnosti železa jako katalyzátoru: SiO2 + 2C → Si + 2CO2 Použití Samotný křemík se využívá k výrobě polovodičových součástek (diody, tranzistory). Dále se také přidává do různých slitin (např. ferosilicium - křemík a železo). Ve sloučeninách (křemen) se potom používá hlavně ve stavebnictví jako písek a při výrobě skla a porcelánu. Sloučeniny 1. bezkyslíkaté sloučeniny SiC - karbid křemíku velmi tvrdá látka, která se používá jako brusný materiál SiCl4 - chlorid křemičitý meziprodukt při výrobě polovodičového křemíku silicidy - např. Mg2Si silany - např. monosilan (SiH4), disilan (Si2H6) obecný vzorec SinH2n + 2; bezbarvé plyny nebo kapaliny, jejichž stálost klesá s délkou řetězce 2. kyslíkaté sloučeniny a) oxidy SiO2 - oxid křemičitý velmi pevná látka, která má vysoký bod tání; v přírodě se vyskytuje jako křemen - barevné odrůdy: ametyst (fialový), záhněda (hnědá), citrín (žlutý), růženín (růžový), křišťál (bezbarvý), opál (amorfní - SiO2 . nH2O) b) kyseliny H2SiO3 - kyselina dihydrogenkřemičitá málo stálá H4SiO4 - kyselina tetrahydrogenkřemičitá málo stálá Copyright © 1998-2013 Jan Straka (straka@tabulka.cz) Všechna práva vyhrazena. 5 Structures of high symmetry: Diamond and ZnS structure Electron density: Density of valence electrons in Si. (a) Measured, Yang and Coppens, SSC (1974). (b) Calculated, nonlocal pseudopotential, Chelikowsky and Cohen, PRB (1976). 6 Precise measurements of X-ray scattering: 7 8 9 MOS transistor - scaling, switching 10 fast switching in silicon NMOS 11 Homework: - find a good interactive periodic table and use it - collect data on lattice constants and gap energies for diamond, silicon, and germanium