1 Analýza pevných vzorků Mgr. Karel Novotný Ph.D. Ústav chemie PřF MU Brno Laboratoř atomové spektrochemie PřF MU Brno 2 Výhody analýzy pevných vzorků Eliminace rozkladů pevných vzorků při roztokové analýze: časově náročné rozklady rezistentních materiálů vysoká spotřeba chemikálií zatěžujících životní prostředí (kyseliny, tavidla) finanční náročnost možnost kontaminace destrukce vzorku 3 Výhody analýzy pevných vzorků Umožňují: lokální analýzu, mikroanalýzu, analýzu nehomogenit strukturní analýzu (RTG) mapování povrchu vzorku a stanovení hloubkového profilu rychlé metody, nedestruktivní a nebo s minimálním narušením povrchu vzorku 4 Atomová emisní spektrometrie v analýze pevných vzorků Atomová spektrometrie: Emise /absorpce elektromagnetického záření atomy, ionty Kvantované přechody valenčních elektronů E2-E1 = hc/λ (spektra VUV, UV, VIS) Přechody subvalenčních elektronů (RTG) Emisní metody: signál = emise fotonů Atomová emisní spektrometrie (AES) je metoda prvkové analýzy založená na generování a detekci čárových spekter při zářivé deexcitaci valenčních elektronů ze vzbuzených do nižších stavů 5 Jiskrová spektrometrie 6 Elektrické zdroje buzení Excitační zdroj - ELEKTRICKÝ OBLOUK - grafitové či kovové elektrody stejnosměrný a střídavý - JISKRA - kovové elektrody - z pracovní se odpaří malé množství vzorku 7 Jiskrový výboj jedná se o krátké proudové impulzy se značnou intenzitou teplota výboje dosahuje až 20000 K charakter výboje je ovlivněn velikostí indukčnosti L, odporu R a kapacity C frekvence výboje – f = 1/ (2p(LC)), 105 – 107 Hz, zvýšení indukčnosti vede k zvětšení poměru S/N 8 Atomová emisní spektrometrie ZPRACOVÁNÍ EMITOVANÉHO ZÁŘENÍ • SPEKTROMETRY a SPEKTROGRAFY • spektrograf - plošný záznam spektra  mnohokanálová detekce záření  fotografická deska, (diodové pole) • spektrometr - fotoelektrický detektor  jednokanálová detekce 9 Atomová emisní spektrometrie ZPRACOVÁNÍ EMITOVANÉHO ZÁŘENÍ • ROZKLAD EMITOVANÉHO ZÁŘENÍ • monochromátor - izolace úzkého spektrálního intervalu z polychromatického záření  vstupní štěrbina  DISPERZNÍ PRVEK (mřížka, hranol)  výstupní štěrbina  zaostřovací optika 10 Atomová emisní spektrometrie ZPRACOVÁNÍ EMITOVANÉHO ZÁŘENÍ • DETEKCE ZÁŘENÍ • FOTOGRAFICKÁ  fotografická deska  film • FOTOELEKTRICKÁ převod optického signálu na elektrický Atomová emisní spektrometrie ZPRACOVÁNÍ EMITOVANÉHO ZÁŘENÍ • FOTOGRAFICKÁ DETEKCE ZÁŘENÍ Atomová emisní spektrometrie ZPRACOVÁNÍ EMITOVANÉHO ZÁŘENÍ • FOTOELEKTRICKÁ DETEKCE ZÁŘENÍ • fotonka • fotoelektrický násobič (fotonásobič) - integrátor, A/D převodník - vícekanálové - až 60 PM • hradlový (selenový) článek • fotodiody - CCD detektory - tisíce kanálů Atomová emisní spektrometrie PŘÍSTROJE • SIMULTÁNNÍ PŘÍSTROJE - KVANTOMETRY  sledování čar omezeného počtu prvků  Rowlandův kruh - řada vyhodnocovacích kanálů (pro jednotlivé vlnové délky) s fotonásobiči • SEKVENČNÍ PŘÍSTROJE  plasmový zdroj  dvojitý monochromátor  fotoelektrická detekce 14 Mobilní jiskrový spektrometr fy. Hilger Analytical ATTEST 2 15 Jiskrový spektrometr analytické jiskřiště – zde vzniká výboj a dochází k buzení spektrálních čar prvků, které jsou přítomny ve vzorku – je tvořeno uhlíkovou elektrodou a protielektrodou (vzorek) difrakční mřížka – rozklad polychromatického záření vycházejícího z jiskrového výboje detektor – soustava 3 CCD detektorů pokrývající spektrální oblast 270-560 nm SiO2 h dopovaný Si elektrody elektroda díra-elektronukládání Inverzní zóna (integrace) Elektricképole substrát hradla 0 V Dopadající elektrony jsou sbírány pomocí MOS kondenzátorů a náboje jednotlivých pixelů se systematicky posouvají pomocí těchto MOS kondenzátorů přes elektrické pole až k čtecímu zesilovači. 16 Metody využívající laserové ablace 1. Laserová ablace spojená s indukčně vázaným plazmatem (LA-ICP-OES) 2. Spektrometrie laserem buzeného plazmatu (LIBS) 17 Základní princip laseru Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation (vlnové délky od IR do UV oblasti) • aktivní prostředí (pevná fáze, plyny, barviva, polovodiče) • inverzní populace (počet elektronů v horní hladině je vyšší než v hladině dolní) • stimulovaná emise ( časově a prostorově koherentní záření) výbojka výbojka aktivní prostředí zrcadlo 1 zrcadlo 2 (polopropustné) laserový paprsek 18 Tří a čtyřhladinový systém čerpáníčerpání rychlá deexcitace rychlá deexcitace emise záření laseru emise záření laseru Tříhladinový systém Čtyřhladinový systém Jestliže na hladině A je doba setrvání elektronu delší ve srovnání s vyšší hladinou, tak může být dosaženo vyššího počtu elektronů na hladině A ve srovnání s hladinou B, čímž je dosaženo inverzní populace Dosažení inverzní populace lze dosáhnout snadněji u čtyřhladinových systémů 0 0 1 1 2 2 3 A A B B rychlá deexcitace 19 Energetické hladiny Nd:YAG laseru 730 nm čerpání 800 nm emise laseru 1064 nm čerpání laseru ..... viditelná oblast emise laseru ............. blízká IR oblast Pracovní módy: kontinuální (CW) laser pulsní (Q-switched laser) Yttrium – Aluminium – Garnet (YAG) dopovaný ionty Nd 3+ 20 Využití laserů v analytické chemii excitace – laserem indukovaná fluorescence (LIF) Ramananova spektrometrie absorpční spektrometrie (atomová, molekulová) laserem indukovaná optoakustická spektrometrie (LIOAS) ionizace – hmotnostní spektrometrie – laser ionization mass analysis (LIMA) laser desorption ionization (LDI MS) matrix assisted -„- (MALDI - TOF – MS) laser microprobe (LMMS) laserová ablace 21 Ablace - (lat. ablatio – leptání): souhrn procesů vedoucí k narušení povrchu materiálu, tavení, sublimace, eroze, exploze apod. Základní pojmy Laserová ablace – zahrnuje procesy probíhající při interakci laserového paprsku se vzorkem – prudký ohřev, odpaření, exploze, uvolnění materiálu ve formě aerosolu a par Techniky založené na laserové ablaci: • spektrometrie laserem buzeného plazmatu LIBS (laser-induced breakdown spectrometry) • techniky využívající LA jako generátor aerosolu: LA – ICP - OES, LA - ICP - MS 22 Laserový paprsek Interakce laserového záření se vzorkem Deponovaný materiál Kráter Pevná látka Praskání materiálu Rázová vlna Ohřev, tavení, vypařování, exploze Absorpce záření v plazmatu Vypařování Atomizace Excitace Ionizace Atomy, ionty, shluky, aerosol LIBS Aerosol ICP-OES ICP-MS Mikroplasma Emise hν 23 Laserová ablace spojená s indukčně vázaným plazmatem (LA-ICP-OES) 24 Indukčně vázané plazma ICP  Excitační zdroj pro atomovou emisní spektrometrii (ICP-AES), excitace M a M+  Ionizační zdroj pro anorganickou hmotnostní spektrometrii (ICP-MS), 90%-ní ionizace: M+  Atomizační prostředí pro atomovou fluorescenční spektrometrii (ICP-AFS), dokonalá atomizace 25 Axiální pozorování Inductively Coupled Plasma Indukční cívka 3-5 závitů Vnější plazmový plyn 12 L/min Ar Střední plazmový plyn 0-0.5 L/min Ar Nosný plyn (aerosolu) 0.6-1 L/min Ar Plazmová hlavice SiO2 3 koncentrické trubice Elektromagnetické pole, frekvence 27 MHz, 40 MHz výkon 1-2 kW Záření, laterální pozorování Iniciace výboje: ionizace jiskrou Analytická zóna 26 Analytické vlastnosti ICP-AES Stanovení 73 prvků včetně P, S, Cl, Br, I Simultánní a rychlé sekvenční stanovení Vysoká selektivita (rozlišení spektrometru) Nízké meze detekce (0.1-10 ng/ml) Lineární dynamický rozsah 5-6 řádů Minimální interference osnovy (< ± 10 % rel.) Přesnost (0.5 - 2 % rel.) Správnost ( 1 % rel.) Kapalné, plynné i pevné vzorky Průtoky mL/min až L/min 27 Tvorba analytického signálu pevný vzorek pevné částice molekuly roztok zmlžování atomy ionty + fotony vypařování disociace desolvatace plynný vzorek ionizace excitace laserová ablace Ar laser kamera zrcadlo čočka ablační komora vedení pohyb vzorku x-y-z vzorek zoom ICP Instrumentace LA-ICP spektrometrie 29 Použití laseru pro analýzu pevných vzorků  Důvody Eliminace rozkladu pevných vzorků pro ICP Eliminace vody a kyselin (zdroj spektrálních interferencí v ICP-MS Lokální analýza, mikroanalýza  Parametry používaných laserů Pulsní (4-7 ns), 10 mJ-1 J, 10-100Hz, d = 5μm až 1 mm, 109W/cm2 Pevnolátkové (Nd:YAG, 1064 nm, 266 nm, 213 nm; exciplexové XeF* 351 nm, KrF* 248 nm, ArF*193 nm) 30 Nd:YAG Brilliant 10 Hz 5 ns Ar, He VZOREK ICP-OES Jobin Yvon – 170 Ultrace POLYCHROMÁTOR MONOCHROMÁTOR EXPERIMENTÁLNÍ USPOŘÁDÁNÍ 31 Příklad časového průběhu signálu Si a Mn během ablace vzorku oceli 0 5000 10000 0 50 100 Čas (s) Si251.611nm 0 1000 2000 Mn257.610nm 1.70 % Si 0.68 % Mn Laser Brilliant Quantel, IR - 1064 nm, ICP JY-170 32 1. kompaktní: oceli – referenční standardy 2. práškové: vzorky strusek a půd, referenční materiály z těchto se připraví lisované tablety se stříbrem Postup měření 1. Zjištění parametrů čar Cr, Mn, Si, Mo, Ni, změření profilů a nastavení korekce pozadí 2. Změření kalibračních závislostí 3. Měření vzorku Vyhodnocení: a) výpočet limity detekce z kalibračních křivek b) určení pásů spolehlivosti kalibračních křivek c) odečtení obsahu neznámého vzorku z kalibračních křivek s určením intervalu spolehlivosti Příklad - vzorky ocelí 33 Spektrometrie laserem buzeného plazmatu (Laser Induced Breakdown spectrometry) LIBS 34 Základní princip: 1 - interakce vzorku s laserovým paprskem o vysoké hustotě záření (~ GWcm-2 - ablace), pulzní lasery - prudký ohřev povrchu vzorku, odpaření uvolnění materiálu ve formě aerosolu a par - vznik mikroplazmatu, emise elektromagnetického záření - detekce záření (spektrometrie s časovým rozlišením) 35 V součastné době aktuální a rozvíjející se technika: pokrok ve vývoji laserů (spolehlivost, cena, velikost) relativně jednoduchá instrumentace (kompaktní přenosná zařízení) in–situ a on-line monitoring (sondy s optickými vlákny) měření „na dálku“ (remote monitoring) aplikace na širokou škálu materiálů – průmysl, životní prostředí, medicína … vývoj komerčních přístrojů výzkum a vývoj nových metod stanovení 3 36 Nd:YAG Brilliant 10 Hz 5 ns Control unit (laboratory made) PMT Hamamatsu R928 Gated Socket Assembly Hamamatsu C1392 Jobin Yvon – Triax 320 Synchronizace – Q switch Synchronizace OSCILOSKOP Tektronix TDS 1012 Zpoždění LIBS - sekvenční 0 50 100 150 200 250 300 350 400 450 500 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 vzorek 3737 „jednokanálové“ - časový průběh pro jednu vlnovou délku, jeden pulz Sekvenční měření Line profile Ni(I) 352,454 nm Cr(I) 520,842 nm 0 50 100 150 200 0 1 2 3 4 5 time (s) Intensity(-mV) I max. I max. - I b I b Si 288,158 nm 0 50 100 150 0 0.2 0.4 0.6 0.8 1 1.2 content Si (%) Intensity(Imax.-Ib) 3 s 2 s 4 s 5 s 3838 Nd:YAG Brilliant 10 Hz 5 ns Jobin Yvon – Triax 320 Řízení Xe výbojky LIBS - simultánní vzorek ICCD Jobin Yvon Horiba Řízení Q – switch 3939 Simultánní měření „vícekanálové“ – spektrum pro dané časové okno, jeden pulz 0 2000 4000 6000 8000 10000 12000 395 400 405 410 415 wavelength (nm) Intensity Ag Co Nb Ta Ti 554 40 Časový režim laseru 50 s 100 ms (10 Hz) cca 120 s cca 200 s 200 až 660 s - umožňuje nastavení energie pulsu řídící puls Xenonová výbojka elektrický puls Xenonová výbojka průběh fluorescence Neodymu Q – switch (spuštění pulsu) 41 Časový režim měření Q – switch (spuštění pulsu) 2 s cca 35 ns cca 5 ns Výstupní puls laseru 50 ns – 10 s 5 s – 25 s Vlastní měření signálu (zapnutí fotonásobiče klíčovací paticí) „ vzorkovací okno“ SIGNÁL I vs. t (l) 42 prvek/čára maximum (nm) korekce pozadí (nm) Cr I 520,842 520,492 Mn I 404,135 404,215 Si I 288,158 288,358 Mo I 553,303 552,903 Ni I 352,454 352,854 Výběr emisních čar Cr, Mn, Si, Mo, Ni -využití zkušeností z jiskrové kvantometrie -proměřeno okolí čar a vybrány vhodné vlnové délky pro korekci pozadí vzorky ocelí – referenční standardy vzorky strusek a půd, referenční materiály, lisované tablety s práškovým stříbrem 43 Cr(I) 520,842 nm 0 50 100 150 200 0 1 2 3 4 5 čas (s) Intenzita(-mV) I max. I max. - I b I b Průběh signálu 50 ns až 5 s po pulsu laseru v maximu čáry Cr I - 520,84 nm (Imax.), na pozadí při 520,50 nm (Ib) a rozdíl signálů v maximu a na pozadí (Imax.- Ib). Měření vzorku oceli (27,98 % Cr), průměrný signál po 128 pulsech laseru. 15 Příklad časového průběhu signálu 44 Si 288,158 nm 0 50 100 150 0 0.2 0.4 0.6 0.8 1 1.2 deklarovaný obsah Si (%) Intenzita(Imax.-Ib) 3 s 2 s 4 s 5 s Si(I) 288,158 nm odečet pozadí 288,358nm (Imax.- Ib). průměrování 128 pulsů laseru 3 měření v různých místech vzorku Příklad kalibrační křivky pro Si 16 45 Příprava tablet tablety se pro LIBS, LA-ICP-OES a XRF se připravují s použitím různých pojiv navážka vzorku (struska, půdy) navážka celulóza, práškové kovy a pod. mletí - 10 min kulový mlýn lisování – průměr tablet 12 mm lis SP2 Mobiko 46 Perspektivní výzkumné směry  LIBS dálková detekce analýza IN-SITU - přenosná zařízení analýza pod vodní hladinou  ICP-MS s laserová ablací lokální analýza a mikroanalýza geolog. materiálů: izotopová analýza, datování, stopová analýza zrn hloubkové koncentrační profily povlaků: pokovení, resistentní keramika, vrstevnaté materiály stopová analýza práškových materiálů: ŽP (půdy)