VORÁČ, Jan, Vojtěch PROCHÁZKA a Pavel DVOŘÁK. VIBRATIONAL AND ROTATIONAL ENERGY TRANSFER IN A 2SIGMA+ STATE OF OH RADICALS MEASURED BY LASER INDUCED FLUORESCENCE. Chem Listy. roč. 106, 1.12.2012, s. 1504-1507. ISSN 0009-2770. 2012.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název VIBRATIONAL AND ROTATIONAL ENERGY TRANSFER IN A 2SIGMA+ STATE OF OH RADICALS MEASURED BY LASER INDUCED FLUORESCENCE
Autoři VORÁČ, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Vojtěch PROCHÁZKA (203 Česká republika, domácí) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, domácí).
Vydání Chem Listy, 2012, 0009-2770.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 0.453
Kód RIV RIV/00216224:14310/12:00064408
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000324813100020
Klíčová slova anglicky LIF; OH; hydroxyl; plasma pencil
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 4. 4. 2013 10:12.
Anotace
Laser induced fluorescence was used for detection of OH radicals in atmospheric pressure RF discharge ignited in argon in the so-called plasma pencil. Vibrational and rotational energy transfers in the excited states A 2 Sigma (v=0,1) together with appropriate life-times were studied. Since argon is relatively uneffective quencher, lifetimes of the excited states in plasma pencil are in the order of tens of nanoseconds, which is appreciably longer than the laser pulse. It was shown that the RET rate in plasma pencil is very high. Therefore, the rotational energy distribution of the excited state can be considered to be well thermalized.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 20. 4. 2024 05:48