SCHMIDTOVÁ, Tereza a Petr VAŠINA. Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization. Chemické listy. roč. 106, S, s. s1482-s1487, 6 s. ISSN 0009-2770. 2012.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization
Autoři SCHMIDTOVÁ, Tereza (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Chemické listy, 2012, 0009-2770.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 0.453
Kód RIV RIV/00216224:14310/12:00058617
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000324813100015
Klíčová slova anglicky reactive magnetron sputtering; modelling; target utilization
Štítky AKR, rivok
Příznaky Recenzováno
Změnil Změnil: prof. Mgr. Petr Vašina, Ph.D., učo 21782. Změněno: 4. 4. 2013 13:38.
Anotace
The paper deals with modelling of reactive magnetron sputtering of titanium with focus on changes in target utilization.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GD104/09/H080, projekt VaVNázev: Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
VytisknoutZobrazeno: 29. 3. 2024 06:37