J 2012

SOME ASPECTS OF UNDERWATER DISCHARGE GENERATED BY HV PULSES AT ATMOSPHERIC PRESSURE

GALMIZ, Oleksandr, Antonín BRABLEC and Zdeněk NAVRÁTIL

Basic information

Original name

SOME ASPECTS OF UNDERWATER DISCHARGE GENERATED BY HV PULSES AT ATMOSPHERIC PRESSURE

Name in Czech

Některé aspekty VN pulsního výboje generovaném za atmosférického tlaku ve vodě

Authors

GALMIZ, Oleksandr (804 Ukraine, belonging to the institution), Antonín BRABLEC (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution) and Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, belonging to the institution)

Edition

Chem. listy, Praha, 2012, 0009-2770

Other information

Language

English

Type of outcome

Článek v odborném periodiku

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impact factor

Impact factor: 0.453

RIV identification code

RIV/00216224:14310/12:00064445

Organization unit

Faculty of Science

UT WoS

000324813100006

Keywords (in Czech)

výboj ve vodě; optická emisní spektroskopie; vysokonapěťové pulzy

Keywords in English

underwater discharge; OES; HV pulses

Tags

International impact, Reviewed
Změněno: 18/4/2013 17:06, doc. RNDr. Antonín Brablec, CSc.

Abstract

V originále

Underwater diaphragm discharge generated by HV pulses at atmospheric pressure has been studied by OES to estimate basic plasma parameters such as electron density and temperature of excited species for various experimental conditions. It was found that intensity of emitted Halfa as well as temperature depends significantly on voltage and conductivity.

In Czech

Pomocí optické emisní spektroskopie byl studován VN pulzní diafragmový výboj generovaný ya atmosférického tlaku ve vodě s cílem určit pro různé experimentální podmínky základní parametry plazmatu jako je koncentrace a teplota elektronů nabuzených částic a jejich teplota. Bylo zjištěno, že intenzita emitované čáry Halfa jakož i teplota významně závisí na napětí a vodivosti.

Links

ED2.1.00/03.0086, research and development project
Name: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy