NEČAS, David, Daniel FRANTA, Ivan OHLÍDAL, Aleš PORUBA a Petr WOSTRÝ. Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films. Surface and Interface Analysis. Hoboken: WILEY-BLACKWELL, 2013, roč. 45, č. 7, s. 1188-1192. ISSN 0142-2421. doi:10.1002/sia.5250.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films
Název česky Elipsometrická charakterizace nehomogenních nestechiometrických vrstev nitridu křemíku
Autoři NEČAS, David (203 Česká republika, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, garant, domácí), Aleš PORUBA (203 Česká republika) a Petr WOSTRÝ (203 Česká republika).
Vydání Surface and Interface Analysis, Hoboken, WILEY-BLACKWELL, 2013, 0142-2421.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10306 Optics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.393
Kód RIV RIV/00216224:14740/13:00065705
Organizační jednotka Středoevropský technologický institut
Doi http://dx.doi.org/10.1002/sia.5250
UT WoS 000320332300018
Klíčová slova česky optická charakterizace; víceúhlová spektroskopická elipsometrie; fázově modulovaná elipsometrie; nehomogenní vrstvy; vrstvy nitridu křemíku
Klíčová slova anglicky optical characterization; variable-angle spectroscopic ellipsometry; phase-modulated ellipsometry; inhomogeneous films; silicon nitride films
Štítky podil, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Martina Prášilová, učo 342282. Změněno: 9. 4. 2015 11:45.
Anotace
Variable-angle spectroscopic ellipsometry is employed for the optical characterization of non-stoichiometric silicon nitride thin films exhibiting inhomogeneity formed by refractive index and extinction index changes through the film thickness. For all the film samples, the best fit of the experimental data is achieved if, in addition to the inhomogeneity, an overlayer or roughness of the upper boundary is included. However, distinguishing of these two defects is found not to be possible. The influence of working gas ratio, deposition temperature and on/off time on the film properties is studied. The refractive index and extinction coefficient is found to increase with increasing working gas ratio and less significantly with decreasing deposition temperature. It is also found that the inhomogeneity increases with decreasing deposition temperature, and the deposition rate of the films decreases with increasing working gas ratio. The influence of the on/off time on the film properties is practically unimportant.
Anotace česky
Víceúhlová spektroskopická elipsometrie je využita k optické charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku vykazujících nehomogenitu tvořenou změnami indexu lomu a extinkčního koeficientu napříč tloušťkou vrstvy. Pro všechny vzorky je dosaženo nejlepšího fitu experimentálních dat, pokud se k nehomogenitě navíc předpokládá horní vrstva nebo drsnost horního rozhraní. Rozlišit mezi těmito dvěma defekty bylo ovšem shledáno nemožným. Je studován vliv poměru pracovních plynů, deposiční teploty a střídy na vlastnosti vrstev. Je shledáno, že index lomu a extinkční koeficient roste s rostoucím poměrem pracovních plynů a méně významně s klesající deposiční teplotou. Dále je shledáno, že nehomogenita roste s rostoucí deposiční teplotou a deposiční rychlost klesá s rostoucím poměrem pracovních plynů. Vliv střídy na vlastnosti vrstev je prakticky nedůležitý.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaVNázev: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
FR-TI1/168, projekt VaVNázev: Barevné solární články s vysokou účinností pro architektonické aplikace
Investor: Ministerstvo průmyslu a obchodu ČR, Barevné solární články s vysokou účinností pro architektonické aplikace
VytisknoutZobrazeno: 7. 12. 2022 08:10