NEČAS, David, Daniel FRANTA, Ivan OHLÍDAL, Aleš PORUBA and Petr WOSTRÝ. Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films. Surface and Interface Analysis. Hoboken: WILEY-BLACKWELL, 2013, vol. 45, No 7, p. 1188-1192. ISSN 0142-2421. doi:10.1002/sia.5250.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Ellipsometric characterization of inhomogeneous non-stoichiometric silicon nitride films
Name in Czech Elipsometrická charakterizace nehomogenních nestechiometrických vrstev nitridu křemíku
Authors NEČAS, David (203 Czech Republic, belonging to the institution), Daniel FRANTA (203 Czech Republic, belonging to the institution), Ivan OHLÍDAL (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Aleš PORUBA (203 Czech Republic) and Petr WOSTRÝ (203 Czech Republic).
Edition Surface and Interface Analysis, Hoboken, WILEY-BLACKWELL, 2013, 0142-2421.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10306 Optics
Country of publisher United States of America
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
Impact factor Impact factor: 1.393
RIV identification code RIV/00216224:14740/13:00065705
Organization unit Central European Institute of Technology
Doi http://dx.doi.org/10.1002/sia.5250
UT WoS 000320332300018
Keywords (in Czech) optická charakterizace; víceúhlová spektroskopická elipsometrie; fázově modulovaná elipsometrie; nehomogenní vrstvy; vrstvy nitridu křemíku
Keywords in English optical characterization; variable-angle spectroscopic ellipsometry; phase-modulated ellipsometry; inhomogeneous films; silicon nitride films
Tags podil, rivok
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: Martina Prášilová, učo 342282. Changed: 9/4/2015 11:45.
Abstract
Variable-angle spectroscopic ellipsometry is employed for the optical characterization of non-stoichiometric silicon nitride thin films exhibiting inhomogeneity formed by refractive index and extinction index changes through the film thickness. For all the film samples, the best fit of the experimental data is achieved if, in addition to the inhomogeneity, an overlayer or roughness of the upper boundary is included. However, distinguishing of these two defects is found not to be possible. The influence of working gas ratio, deposition temperature and on/off time on the film properties is studied. The refractive index and extinction coefficient is found to increase with increasing working gas ratio and less significantly with decreasing deposition temperature. It is also found that the inhomogeneity increases with decreasing deposition temperature, and the deposition rate of the films decreases with increasing working gas ratio. The influence of the on/off time on the film properties is practically unimportant.
Abstract (in Czech)
Víceúhlová spektroskopická elipsometrie je využita k optické charakterizace nestechiometrických vrstev nitridu křemíku vykazujících nehomogenitu tvořenou změnami indexu lomu a extinkčního koeficientu napříč tloušťkou vrstvy. Pro všechny vzorky je dosaženo nejlepšího fitu experimentálních dat, pokud se k nehomogenitě navíc předpokládá horní vrstva nebo drsnost horního rozhraní. Rozlišit mezi těmito dvěma defekty bylo ovšem shledáno nemožným. Je studován vliv poměru pracovních plynů, deposiční teploty a střídy na vlastnosti vrstev. Je shledáno, že index lomu a extinkční koeficient roste s rostoucím poměrem pracovních plynů a méně významně s klesající deposiční teplotou. Dále je shledáno, že nehomogenita roste s rostoucí deposiční teplotou a deposiční rychlost klesá s rostoucím poměrem pracovních plynů. Vliv střídy na vlastnosti vrstev je prakticky nedůležitý.
Links
ED1.1.00/02.0068, research and development projectName: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, research and development projectName: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
FR-TI1/168, research and development projectName: Barevné solární články s vysokou účinností pro architektonické aplikace
Investor: Ministry of Industry and Trade of the CR
PrintDisplayed: 31/1/2023 07:27