JOSEPSON, Raavo, Zdeněk NAVRÁTIL, Lenka DOSOUDILOVÁ, Pavel DVOŘÁK a David TRUNEC. Atmospheric pressure RF discharge in neon and helium. IEEE Transactions on Plasma Science. IEEE, 2014, roč. 42, č. 10, s. 2348-2349. ISSN 0093-3813. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2307080.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Atmospheric pressure RF discharge in neon and helium
Název česky RF výboj za atmosférického tlaku v neonu a heliu
Autoři JOSEPSON, Raavo (233 Estonsko, domácí), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika, garant, domácí), Lenka DOSOUDILOVÁ (203 Česká republika, domácí), Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, domácí) a David TRUNEC (203 Česká republika, domácí).
Vydání IEEE Transactions on Plasma Science, IEEE, 2014, 0093-3813.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.101
Kód RIV RIV/00216224:14310/14:00073528
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1109/TPS.2014.2307080
UT WoS 000344548300012
Klíčová slova česky atmosférické plazma; neon; helium; radiofrekvenční kapacitní výboj
Klíčová slova anglicky atmospheric-pressure plasmas; neon; helium; radio frequency capacitive discharge
Štítky AKR, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: doc. Mgr. Zdeněk Navrátil, Ph.D., učo 3323. Změněno: 13. 3. 2018 11:04.
Anotace
Radio frequency (13.56 MHz) capacitive discharges at atmospheric pressure in neon and helium were studied by ICCD imaging. The discharges were generated between parallel plate metal electrodes with a gap of 2 mm. At certain conditions, a homogeneous discharge burning in alpha mode can be generated both in helium and neon. The time-resolved images of discharges reveal similarities in atomic excitation mechanism in both gases.
Anotace česky
Radiofrekvenční (13.56 MHz) kapacitní výboje za atmosférického tlaku v neonu a heliu byly studovány zobrazovacími metodami pomocí ICCD.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, projekt VaVNázev: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
VytisknoutZobrazeno: 1. 9. 2024 01:17