J 2014

Atmospheric pressure RF discharge in neon and helium

JOSEPSON, Raavo, Zdeněk NAVRÁTIL, Lenka DOSOUDILOVÁ, Pavel DVOŘÁK, David TRUNEC et. al.

Basic information

Original name

Atmospheric pressure RF discharge in neon and helium

Name in Czech

RF výboj za atmosférického tlaku v neonu a heliu

Authors

JOSEPSON, Raavo (233 Estonia, belonging to the institution), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Lenka DOSOUDILOVÁ (203 Czech Republic, belonging to the institution), Pavel DVOŘÁK (203 Czech Republic, belonging to the institution) and David TRUNEC (203 Czech Republic, belonging to the institution)

Edition

IEEE Transactions on Plasma Science, IEEE, 2014, 0093-3813

Other information

Language

English

Type of outcome

Článek v odborném periodiku

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

United States of America

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

References:

Impact factor

Impact factor: 1.101

RIV identification code

RIV/00216224:14310/14:00073528

Organization unit

Faculty of Science

UT WoS

000344548300012

Keywords (in Czech)

atmosférické plazma; neon; helium; radiofrekvenční kapacitní výboj

Keywords in English

atmospheric-pressure plasmas; neon; helium; radio frequency capacitive discharge

Tags

Tags

International impact, Reviewed
Změněno: 13/3/2018 11:04, doc. Mgr. Zdeněk Navrátil, Ph.D.

Abstract

V originále

Radio frequency (13.56 MHz) capacitive discharges at atmospheric pressure in neon and helium were studied by ICCD imaging. The discharges were generated between parallel plate metal electrodes with a gap of 2 mm. At certain conditions, a homogeneous discharge burning in alpha mode can be generated both in helium and neon. The time-resolved images of discharges reveal similarities in atomic excitation mechanism in both gases.

In Czech

Radiofrekvenční (13.56 MHz) kapacitní výboje za atmosférického tlaku v neonu a heliu byly studovány zobrazovacími metodami pomocí ICCD.

Links

ED2.1.00/03.0086, research and development project
Name: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, research and development project
Name: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci
GA13-24635S, research and development project
Name: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Czech Science Foundation