a 2014

Time Resolved Imaging of Atmospheric Pressure Radio Frequency Discharge in Neon and Helium

JOSEPSON, Raavo, Zdeněk NAVRÁTIL, Lenka DOSOUDILOVÁ and David TRUNEC

Basic information

Original name

Time Resolved Imaging of Atmospheric Pressure Radio Frequency Discharge in Neon and Helium

Authors

JOSEPSON, Raavo (233 Estonia, guarantor), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Lenka DOSOUDILOVÁ (203 Czech Republic, belonging to the institution) and David TRUNEC (203 Czech Republic, belonging to the institution)

Edition

The XXII Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG) 2014, 2014

Other information

Language

English

Type of outcome

Konferenční abstrakt

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Germany

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/14:00076037

Organization unit

Faculty of Science

ISBN

2-914771-86-X

Keywords in English

radio-frequency discharge; atmospheric pressure; neon; helium; time resolved spectroscopy
Změněno: 20/7/2015 12:02, prof. RNDr. David Trunec, CSc.

Abstract

ORIG CZ

V originále

The atmospheric pressure radio-frequency discharge in helium and neon was studied in a plane-to-plane gap by an ICCD camera. In both gases the discharges burned in homogeneous-mode. The full color time resolved pictures showed that the atomic excitations are similar in both gases, but the molecular emissions are different. A time shift was recorded between emissions of the atomic and molecular bands.

In Czech

Radiofrekvenční výboj za atmosférického tlaku v héliu a neonu byl studován v rovinné konfiguraci pomocí ICCD kamery. V obou plynech výboj hořel v homogenním módu. Časově rozlišené barevné snímky ukazují, že excitace atomů jsou obdobné v obou plynech podobné, zatímco excitace molekul nejsou. Byl zaznamenán časový posuv mezi excitacemi atomů a molekul.

Links

ED2.1.00/03.0086, research and development project
Name: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, research and development project
Name: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci