ELIÁŠ, Marek, Petr KLOC, Ondřej JAŠEK, Věra MAZÁNKOVÁ, David TRUNEC, Radim HRDÝ a Lenka ZAJÍČKOVÁ. Atmospheric pressure barrier discharge at high temperature: Diagnostics and carbon nanotubes deposition. Journal of Applied Physics. Melville (USA): AMER INST PHYSICS, roč. 117, č. 10, s. "nestránkováno", 10 s. ISSN 0021-8979. doi:10.1063/1.4914062. 2015.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Atmospheric pressure barrier discharge at high temperature: Diagnostics and carbon nanotubes deposition
Název česky Bariérový výboj za atmosférického tlaku při vysoké teplotě: Diganostika a růst uhlíkových nanotrubek
Autoři ELIÁŠ, Marek (203 Česká republika, garant, domácí), Petr KLOC (203 Česká republika, domácí), Ondřej JAŠEK (203 Česká republika, domácí), Věra MAZÁNKOVÁ (203 Česká republika, domácí), David TRUNEC (203 Česká republika, domácí), Radim HRDÝ (203 Česká republika) a Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí).
Vydání Journal of Applied Physics, Melville (USA), AMER INST PHYSICS, 2015, 0021-8979.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW web vydavatele
Impakt faktor Impact factor: 2.101
Kód RIV RIV/00216224:14740/15:00080701
Organizační jednotka Středoevropský technologický institut
Doi http://dx.doi.org/10.1063/1.4914062
UT WoS 000351442900010
Klíčová slova česky bariérový výboj; vysoká teplota; diagnostika plazmatu; uhlíkové nanotrubky
Klíčová slova anglicky barrier discharge; high temperature; plasma diagnostics; carbon nanotubes
Štítky podil, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 19. 9. 2017 04:55.
Anotace
Atmospheric pressure dielectric barrier discharge (DBD) in Ar/H-2 gas feed with C2H2 or CH4 admixture was studied at room and high temperature of 680 degrees C by plasma diagnostics (electrical measurements, fast camera imaging, and optical emission spectroscopy). It was shown that filamentary DBD in pure Ar or Ar/H-2 can be converted into homogeneous discharge by an acetylene admixture. Fast intensified charge-coupled device (ICCD) camera proved that this homogeneous discharge is an atmospheric pressure glow discharge (APGD) at room temperature whereas at high temperature the discharge mode switches at every half-period between APGD and atmospheric pressure Townsend discharge. The high temperature discharges (610-710 degrees C) in Ar/H-2/C2H2 and Ar/H-2/CH4 were also investigated with respect to a surface bound deposition of carbon nanotubes using 5 nm thick iron layer as a catalyst. CNTs were deposited without any dedicated catalyst pretreatment phase. The quality of CNTs, namely, their density, vertical alignment, and width of the diameter distribution, was better for the C2H2 gas feed and higher temperatures. (C) 2015 AIP Publishing LLC.
Anotace česky
Bariérový výboj za atmosférického tlaku ve směsi Ar/H2 s příměsí C2H2 a CH4 byl studován za pokojové a vysoké teploty. Výboj za vysoké teploty (610-710°C) ve směsi Ar/H2/C2H2 a Ar/H2/CH4 byl studován za účelem růstu uhlíkových nanotrubek.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaVNázev: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/10/1374, projekt VaVNázev: Syntéza uhlíkových nanotrubek plazmochemickou metodou a studium jejich funkčních vlastností
Investor: Grantová agentura ČR, Syntéza uhlíkových nanotrubek plazmochemickou metodou a studium jejich funkčních vlastností
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 23:15