NEČAS, David, Ivan OHLÍDAL, Daniel FRANTA, Vladimír ČUDEK, Miloslav OHLÍDAL, Jiří VODÁK, Lucia SLÁDKOVÁ, Lenka ZAJÍČKOVÁ, Marek ELIÁŠ a František VIZĎA. Assessment of non-uniform thin films using spectroscopic ellipsometry and imaging spectroscopic reflectometry. Thin Solid Films. Lausanne: Elsevier Science, 2014, roč. 571, november, s. 573-578. ISSN 0040-6090. doi:10.1016/j.tsf.2013.12.036.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Assessment of non-uniform thin films using spectroscopic ellipsometry and imaging spectroscopic reflectometry
Autoři NEČAS, David (203 Česká republika, garant, domácí), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika, domácí), Daniel FRANTA (203 Česká republika, domácí), Vladimír ČUDEK (203 Česká republika, domácí), Miloslav OHLÍDAL (203 Česká republika), Jiří VODÁK (203 Česká republika), Lucia SLÁDKOVÁ (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Marek ELIÁŠ (203 Česká republika, domácí) a František VIZĎA (203 Česká republika).
Vydání Thin Solid Films, Lausanne, Elsevier Science, 2014, 0040-6090.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Švýcarsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.759
Kód RIV RIV/00216224:14740/14:00073337
Organizační jednotka Středoevropský technologický institut
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2013.12.036
UT WoS 000346055200044
Klíčová slova anglicky Variable-angle spectroscopic ellipsometry; Mapping spectroscopic ellipsometry; Imaging spectroscopic reflectometry; Non-uniform thin films
Štítky kontrola MP, MP, podil, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Martina Prášilová, učo 342282. Změněno: 1. 4. 2015 14:20.
Anotace
Standard variable-angle spectroscopic ellipsometry, mapping spectroscopic ellipsometry with microspot and imaging spectroscopic reflectometry are applied to optical characterisation of a thin SiOxCyHz film considerably non-uniform in thickness and which is also suspected of non-uniformity also in the optical constants. It is shown that using the combination of these three optical methods, enables us to determine the spectral dependencies of the optical constants of the film together with parameters characterising the shape of thickness non-uniformity and fine map of local thickness. The mapping spectroscopic ellipsometry with microspot enables deciding whether the film is non-uniform in optical constants. For the thin film studied it is found that the non-uniformity in optical constants is under experimental accuracy. The consistency of results obtained using individual techniques is checked and the advantages and disadvantages of the techniques are discussed. (C) 2013 Elsevier B.V. All rights reserved.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaVNázev: CEITEC - central european institute of technology
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TA02010784, projekt VaVNázev: Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
Investor: Technologická agentura ČR, Optimalizace vrstevnatých systémů používaných v optickém průmyslu
VytisknoutZobrazeno: 26. 6. 2022 01:14