KELAR, Jakub, Jan ČECH a Pavel SLAVÍČEK. Energy efficiency of planar discharge for industrial applications. Acta Polytechnica. ČVUT, 2015, roč. 55, č. 2, s. 109-112. ISSN 1210-2709. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.14311/AP.2015.55.0109.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Energy efficiency of planar discharge for industrial applications
Název česky Energetická účinnost planárního výboje pro průmyslové aplikace
Autoři KELAR, Jakub (203 Česká republika, garant, domácí), Jan ČECH (203 Česká republika, domácí) a Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika, domácí).
Vydání Acta Polytechnica, ČVUT, 2015, 1210-2709.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00080395
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.14311/AP.2015.55.0109
UT WoS 000433699100006
Klíčová slova česky dielektrický bariérový výboj; DCSBD; elektrická účinnost; odhad výkonu; chybová analýza
Klíčová slova anglicky dielectric barrier discharge; DCSBD; electrical efficiency; power estimation; error analysis
Štítky AKR, power estimation of DCSBD, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 25. 6. 2020 14:30.
Anotace
Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge has proven its capabilities as an industry-ready plasma source for fast, in-line and efficient plasma treatment at atmospheric pressure. One parameter required by industry is energy efficiency of the device. In this paper, we present the energy efficiency of the whole plasma system, and we investigate possible sources of errors.
Anotace česky
Difuzní koplanární povrchový bariérový výboj se osvšdčil jako "industry-ready" plazmový zdroj pro rychlé, in-line a efektivní plazmové úpravy za atmosférického tlaku. Jedním z parametrů vyžadovaných v průmyslu je energetická účinnost zařízení. V tomto článku uvádíme energiovou účinnost celého plazmového systému a vyšetřujeme možné zdroje chyb tohoto stanovení.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TA02010412, projekt VaVNázev: Zlepšení klíčivosti semen účinkem nízkoteplotního plazmatu
Investor: Technologická agentura ČR, Zlepšení klíčivosti semen účinkem nízkoteplotního plazmatu
VytisknoutZobrazeno: 1. 10. 2024 00:49