KELAR, Jakub, Jan ČECH and Pavel SLAVÍČEK. Energy efficiency of planar discharge for industrial applications. Acta Polytechnica. ČVUT, 2015, vol. 55, No 2, p. 109-112. ISSN 1210-2709. Available from: https://dx.doi.org/10.14311/AP.2015.55.0109.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Energy efficiency of planar discharge for industrial applications
Name in Czech Energetická účinnost planárního výboje pro průmyslové aplikace
Authors KELAR, Jakub (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Jan ČECH (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Pavel SLAVÍČEK (203 Czech Republic, belonging to the institution).
Edition Acta Polytechnica, ČVUT, 2015, 1210-2709.
Other information
Original language English
Type of outcome Article in a journal
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
RIV identification code RIV/00216224:14310/15:00080395
Organization unit Faculty of Science
Doi http://dx.doi.org/10.14311/AP.2015.55.0109
UT WoS 000433699100006
Keywords (in Czech) dielektrický bariérový výboj; DCSBD; elektrická účinnost; odhad výkonu; chybová analýza
Keywords in English dielectric barrier discharge; DCSBD; electrical efficiency; power estimation; error analysis
Tags AKR, power estimation of DCSBD, rivok
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Changed: 25/6/2020 14:30.
Abstract
Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge has proven its capabilities as an industry-ready plasma source for fast, in-line and efficient plasma treatment at atmospheric pressure. One parameter required by industry is energy efficiency of the device. In this paper, we present the energy efficiency of the whole plasma system, and we investigate possible sources of errors.
Abstract (in Czech)
Difuzní koplanární povrchový bariérový výboj se osvšdčil jako "industry-ready" plazmový zdroj pro rychlé, in-line a efektivní plazmové úpravy za atmosférického tlaku. Jedním z parametrů vyžadovaných v průmyslu je energetická účinnost zařízení. V tomto článku uvádíme energiovou účinnost celého plazmového systému a vyšetřujeme možné zdroje chyb tohoto stanovení.
Links
ED2.1.00/03.0086, research and development projectName: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, research and development projectName: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Czech Science Foundation
LO1411, research and development projectName: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Acronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR
TA02010412, research and development projectName: Zlepšení klíčivosti semen účinkem nízkoteplotního plazmatu
Investor: Technology Agency of the Czech Republic
PrintDisplayed: 30/5/2024 03:22