Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in HIPIMS discharge
| FEKETE, Matej, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in HIPIMS discharge. In Sixth International Conference on HIPIMS. 2015. |
|
Další formáty:
BibTeX
LaTeX
RIS
|
| Základní údaje | |
|---|---|
| Originální název | Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in HIPIMS discharge |
| Autoři | FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí). |
| Vydání | Sixth International Conference on HIPIMS, 2015. |
| Další údaje | |
|---|---|
| Originální jazyk | angličtina |
| Typ výsledku | Konferenční abstrakt |
| Obor | 10305 Fluids and plasma physics |
| Stát vydavatele | Německo |
| Utajení | není předmětem státního či obchodního tajemství |
| Kód RIV | RIV/00216224:14310/15:00080966 |
| Organizační jednotka | Přírodovědecká fakulta |
| Klíčová slova anglicky | HIPIMS; OES; titanium |
| Příznaky | Mezinárodní význam |
| Změnil | Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 7. 12. 2015 11:04. |
| Anotace |
|---|
| Number densities of sputtered Ti atoms and ions in their ground levels were determined by developed technique based on effective branching fractions. Densities were determined for single pulse,sequence of pulses and after the end of the pulse. |
| Návaznosti | |
|---|---|
| ED2.1.00/03.0086, projekt VaV | Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy |
| GAP205/12/0407, projekt VaV | Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev |
| Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev | |
| GA15-00863S, projekt VaV | Název: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace |
| Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace | |
| LO1411, projekt VaV | Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus) |
| Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy | |
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 01:15