a 2015

Detection of hydrogen radicals in a dielectric barrier discharge by laser-induced fluorescence

DVOŘÁK, Pavel and Marek TALÁBA

Basic information

Original name

Detection of hydrogen radicals in a dielectric barrier discharge by laser-induced fluorescence

Name in Czech

Detekce vodíkových radikálů v dielektrickém bariérovém výboji pomocí laserem indukované fluorescence

Authors

DVOŘÁK, Pavel (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Marek TALÁBA (703 Slovakia, guarantor)

Edition

ICPIG - International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 2015

Other information

Language

English

Type of outcome

Konferenční abstrakt

Field of Study

10305 Fluids and plasma physics

Country of publisher

Romania

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/15:00081153

Organization unit

Faculty of Science

Keywords (in Czech)

plazma; DBD; vodík; TALIF

Keywords in English

plasma; DBD; hydrogen; TALIF

Tags

Tags

International impact, Reviewed
Změněno: 28/4/2016 15:02, Ing. Andrea Mikešková

Abstract

V originále

Absolute atomic hydrogen densities were measured by two-photon absorption laser-induced fluorescence (TALIF) in a volume dielectric barrier discharge, which was ignited in a mixture of argon and hydrogen in a plasma reactor at atmospheric pressure. Hydrogen atoms were excited by laser radiation with the wavelength 205 nm. We identified the main fluorescence parameters, e.g. the degree of saturation, the spectral profile of the absorption line and the dependency of the signal on the discharge phase. The calibration was done using TALIF of krypton with the 204 nm wavelength. The absolute concentrations of atomic hydrogen were determined based on different parameters of the system, e.g. the flow rate of the studied gases and the generator voltage.

In Czech

Měření koncentrace jednoatomových radikálů vodíku pomocí TALIF v dielektrickém bariérovém výboji.

Links

ED2.1.00/03.0086, research and development project
Name: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, research and development project
Name: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Czech Science Foundation
LO1411, research and development project
Name: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Acronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR
7AMB14SK204, research and development project
Name: Studium nerovnovážného difúzního plazmatu generovaného ve vodních parách za atmosférického tlaku optickými a laserovými metodami (Acronym: LIFOH)
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR