Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění

SŤAHEL, Pavel, Mirko ČERNÁK, Zdeněk NAVRÁTIL, Jaroslav JIRUŠE, Jiří FIALA a Martin HANIČINEC. Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění. Patent. Číslo: 305097. Vydavatel: Úřad průmyslového vlastnictví. Místo vydání: Praha. Název vlastníka: Masarykova univerzita, Brno, CZ TESCAN ORSAY HOLDING, a.s., Brno, Kohoutovice, CZ. Datum registrace: 30. 1. 2014. Datum přijetí: 18. 3. 2015. 2015.

Základní údaje

• Originální název: Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění
• Název česky: Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění
• Název anglicky: Method of reducing or removing organic and/or inorganic contamination of vacuum system of display and analytic devices and apparatus for making the same
• Autoři: SŤAHEL, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika, domácí), Jaroslav JIRUŠE (203 Česká republika), Jiří FIALA (203 Česká republika) a Martin HANIČINEC (203 Česká republika).
• Vydání: Číslo: 305097, Vydavatel: Úřad průmyslového vlastnictví, Místo vydání: Praha, Název vlastníka: Masarykova univerzita, Brno, CZ TESCAN ORSAY HOLDING, a.s., Brno, Kohoutovice, CZ, 2015.

Další údaje

• Originální jazyk: čeština
• Typ výsledku: Patent
• Obor: 10302 Condensed matter physics
• Stát vydavatele: Česká republika
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/15:00080455
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• Klíčová slova česky: Fotokatalýza dekontaminace
• Klíčová slova anglicky: Photocatalysis decontamination
• Štítky: AKR

Anotace

Způsob snížení nebo odstranění organické a, nebo anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení, kde alespoň část plochy vnitřního povrchu vakuovaného prostoru vakuového systému se opatří fotokatalytickou vrstvou, přičemž alespoň část této fotokatalytické vrstvy se chladí na teplotu v intervalu od 0 do 280 K, přičemž řečená fotokatalytická vrstva je dále alespoň z části ozařována elektromagnetickým zářením, které aktivuje fotokatalytickou reakci této fotokatalytické vrstvy s adsorbovanými plyny atmosféry vakuovaného vnitřního prostoru vakuového systému, kde tato reakce rozkládá kontaminanty a snižuje jejich koncentraci a, nebo koncentraci vody ve vakuovaném vnitřním prostoru vakuového systému. Tento způsob a zařízení k jeho provádění umožňuje snížení nežádoucí organické a anorganické kontaminace vakuových systémů, a to nejen v procesu výroby, ale také umožňuje snížení kontaminace v již provozovaných systémech, jako jsou např. SEM, TEM, SEM FIB, XPS, MALDI, SIMS a další analytické a inspekční techniky.

Anotace anglicky

In the present invention, there is disclosed a method of reducing or removing organic and or inorganic contamination of vacuum system of display and analytic devices, where at least a portion of the inner surface area of a space to be vacuumed is provided with a photocatalytic layer , whereby at least a portion of this photocatalytic layer is cooled to a temperature in the range of from about 0 to about 280 K, wherein the said photocatalytic layer is at least partially irradiated by electromagnetic radiation , which activates a photocatalytic reaction of this photocatalytic layer with adsorbed gases of the vacuumed interior atmosphere of the vacuum system. The reaction then degrades contaminants and reduces concentration thereof and, or concentration of water in the vacuumed interior of the vacuum system. The above-described method and apparatus for making the same make it possible to reduce undesired organic and inorganic contamination of vacuum systems not only in the manufacturing process, but also enables reduction of contamination in already operated systems such as SEM, TAM, SEM FIB, XPS, MALDI, SIMS and other analytic and inspection techniques.

Návaznosti

• ED2.1.00/03.0086, projekt VaV: Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• KAN101630651, projekt VaV: Název: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku

Investor: Akademie věd ČR, Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku

• TA01010948, projekt VaV: Název: Zvýšení adheze polypropylenových výstužných vláken k betonu pomoci nízkoteplotního plazmatu (Akronym: beton)

Investor: Technologická agentura ČR, Zvýšení adheze polypropylenových výstužných vláken k betonu pomoci nízkoteplotního plazmatu