Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění

SŤAHEL, Pavel, Mirko ČERNÁK, Zdeněk NAVRÁTIL, Jaroslav JIRUŠE, Jiří FIALA and Martin HANIČINEC. Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění (Method of reducing or removing organic and/or inorganic contamination of vacuum system of display and analytic devices and apparatus for making the same). 2015.

Basic information

• Original name: Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění
• Name in Czech: Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění
• Name (in English): Method of reducing or removing organic and/or inorganic contamination of vacuum system of display and analytic devices and apparatus for making the same
• Authors: SŤAHEL, Pavel (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Mirko ČERNÁK (703 Slovakia, belonging to the institution), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Jaroslav JIRUŠE (203 Czech Republic), Jiří FIALA (203 Czech Republic) and Martin HANIČINEC (203 Czech Republic).
• Edition: Number: 305097, Publisher: Úřad průmyslového vlastnictví, Place of publication: Praha, Owner's name: Masarykova univerzita, Brno, CZ TESCAN ORSAY HOLDING, a.s., Brno, Kohoutovice, CZ, 2015.

Other information

• Original language: Czech
• Type of outcome: Patent
• Field of Study: 10302 Condensed matter physics
• Country of publisher: Czech Republic
• Confidentiality degree: is not subject to a state or trade secret
• RIV identification code: RIV/00216224:14310/15:00080455
• Organization unit: Faculty of Science
• Keywords (in Czech): Fotokatalýza dekontaminace
• Keywords in English: Photocatalysis decontamination
• Tags: AKR

Abstract

Způsob snížení nebo odstranění organické a, nebo anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení, kde alespoň část plochy vnitřního povrchu vakuovaného prostoru vakuového systému se opatří fotokatalytickou vrstvou, přičemž alespoň část této fotokatalytické vrstvy se chladí na teplotu v intervalu od 0 do 280 K, přičemž řečená fotokatalytická vrstva je dále alespoň z části ozařována elektromagnetickým zářením, které aktivuje fotokatalytickou reakci této fotokatalytické vrstvy s adsorbovanými plyny atmosféry vakuovaného vnitřního prostoru vakuového systému, kde tato reakce rozkládá kontaminanty a snižuje jejich koncentraci a, nebo koncentraci vody ve vakuovaném vnitřním prostoru vakuového systému. Tento způsob a zařízení k jeho provádění umožňuje snížení nežádoucí organické a anorganické kontaminace vakuových systémů, a to nejen v procesu výroby, ale také umožňuje snížení kontaminace v již provozovaných systémech, jako jsou např. SEM, TEM, SEM FIB, XPS, MALDI, SIMS a další analytické a inspekční techniky.

Abstract (in English)

In the present invention, there is disclosed a method of reducing or removing organic and or inorganic contamination of vacuum system of display and analytic devices, where at least a portion of the inner surface area of a space to be vacuumed is provided with a photocatalytic layer , whereby at least a portion of this photocatalytic layer is cooled to a temperature in the range of from about 0 to about 280 K, wherein the said photocatalytic layer is at least partially irradiated by electromagnetic radiation , which activates a photocatalytic reaction of this photocatalytic layer with adsorbed gases of the vacuumed interior atmosphere of the vacuum system. The reaction then degrades contaminants and reduces concentration thereof and, or concentration of water in the vacuumed interior of the vacuum system. The above-described method and apparatus for making the same make it possible to reduce undesired organic and inorganic contamination of vacuum systems not only in the manufacturing process, but also enables reduction of contamination in already operated systems such as SEM, TAM, SEM FIB, XPS, MALDI, SIMS and other analytic and inspection techniques.

Links

• ED2.1.00/03.0086, research and development project: Name: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• KAN101630651, research and development project: Name: Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku

Investor: Academy of Sciences of the Czech Republic, Preparation of nano-films and nano-coatings on textiles using plasma surface treatment at atmospheric pressure

• TA01010948, research and development project: Name: Zvýšení adheze polypropylenových výstužných vláken k betonu pomoci nízkoteplotního plazmatu (Acronym: beton)

Investor: Technology Agency of the Czech Republic