SAMPATH, Sridhar, Philipp MAYDANNIK, Tatiana IVANOVA, Marina SHESTAKOVA, Tomáš HOMOLA, Anton BRYUKVIN, Mika SILLANPÄÄ, Rameshbabu NAGUMOTHU a Viswanathan ALAGAN. Efficient solar photocatalytic activity of TiO2 coated nano-porous silicon by atomic layer deposition. Superlattices and Microstructures. roč. 97, september, s. 155-166. ISSN 0749-6036. doi:10.1016/j.spmi.2016.06.004. 2016.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Efficient solar photocatalytic activity of TiO2 coated nano-porous silicon by atomic layer deposition
Autoři SAMPATH, Sridhar (356 Indie, garant), Philipp MAYDANNIK (643 Rusko), Tatiana IVANOVA (643 Rusko), Marina SHESTAKOVA (643 Rusko), Tomáš HOMOLA (703 Slovensko, domácí), Anton BRYUKVIN (643 Rusko), Mika SILLANPÄÄ (246 Finsko), Rameshbabu NAGUMOTHU (356 Indie) a Viswanathan ALAGAN (356 Indie).
Vydání Superlattices and Microstructures, 2016, 0749-6036.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0749603616302567
Impakt faktor Impact factor: 2.123
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00090205
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.spmi.2016.06.004
UT WoS 000385319200017
Klíčová slova anglicky Porous silicon;TiO2;Stain etching;ALD;Layer by layer solar absorption
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 5. 4. 2017 11:31.
Anotace
In the present study, TiO2 coated nano-porous silicon (TiO2/PS) was prepared by atomic layer deposition (ALD) whereas porous silicon was prepared by stain etching method for efficient solar photocatalytic activity. TiO2/PS was characterized by FESEM, AFM, XRD, XPS and DRS UV–vis spectrophotometer. Absorbance spectrum revealed that TiO2/PS absorbs complete solar light with wave length range of 300 nm–800 nm and most importantly, it absorbs stronger visible light than UV light.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 19. 4. 2024 02:05