Concentration of Atomic Hydrogen Measured in a Heated Atomizer by Two-Photon Absorption Laser-Induced Fluorescence
Název česky
Koncentrace atomárního vodíku ve vyhřívaném atomizátoru měřená fluorescencí indukovanou dvoufotonovou absorpcí laserového záření
Autoři
DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Marek TALÁBA (703 Slovensko, domácí), Jiří DĚDINA (203 Česká republika), Jan KRATZER (203 Česká republika) a Adam OBRUSNÍK (203 Česká republika, domácí)
Vydání
Brno, Czech Rep. HAKONE XV - Book of Contributed Papers, od s. 148 - 151, 4 s. 2016
Concentration of free hydrogen atoms was measured by the two-photon absorption laser-induced fluoresence (TALIF) in an externally heated atomizer in a mixture of argon, hydrogen and oxygen at atmospheric pressure. Free hydrogen atoms were generated in a flame located at the end of a capillary that supplied O2 into the Ar - H2 mixture. The atomic hydrogen concentration in the order 1022 m-3 was found in the region around the flame. Optimal gas composition for atomic hydrogen production was found and an effect of gas flow on the atomic hydrogen distribution was observed.
Česky
Měření koncentrace atomárního vodíku ve vyhřívaném atomizátoru ve směsích Ar + H2 + O2. Koncentrace atomárního vodíku v okolí plaménku, který inicioval disociaci vodíkových molekul, byla v řádu 10^{22} m^{-3}.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy