D 2016

A TREATISE ON THE DIFFUSIVENESS OF DIFFUSE COPLANAR SURFACE BARRIER DISCHARGE

RÁHEĽ, Jozef, Jan ČECH a Tomáš MORÁVEK

Základní údaje

Originální název

A TREATISE ON THE DIFFUSIVENESS OF DIFFUSE COPLANAR SURFACE BARRIER DISCHARGE

Autoři

RÁHEĽ, Jozef (203 Česká republika, garant, domácí), Jan ČECH (203 Česká republika, domácí) a Tomáš MORÁVEK (703 Slovensko, domácí)

Vydání

Brno, Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers, od s. 92-96, 5 s. 2016

Nakladatel

Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Odkazy

URL

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00088284

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-8318-9

UT WoS

000393033200018

Klíčová slova anglicky

coplanar DBD; diffuse DBD; DCSBD

Štítky

AKR, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 26. 4. 2017 22:42, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Various aspects of uniform appearance of diffuse coplanar surface barrier discharge are discussed, leading to the conclusion, that generated plasma should be viewed as macroscopically, not microscopically uniform. For some particular condition however, a real diffuse operation mode can be stabilized. These conditions will be presented here.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Zobrazeno: 17. 11. 2024 21:38