FALTÝNEK, Jan, Jaroslav HNILICA a Vít KUDRLE. Electron density in amplitude modulated microwave atmospheric plasma jet as determined from microwave interferometry and emission spectroscopy. Plasma Sources Science and Technology. Bristol, England: IOP PUBLISHING LTD, roč. 26, č. 1, s. nestránkováno, 13 s. ISSN 0963-0252. doi:10.1088/0963-0252/26/1/015010. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Electron density in amplitude modulated microwave atmospheric plasma jet as determined from microwave interferometry and emission spectroscopy
Autoři FALTÝNEK, Jan (203 Česká republika, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Vít KUDRLE (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Plasma Sources Science and Technology, Bristol, England, IOP PUBLISHING LTD, 2017, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 3.939
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095999
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/26/1/015010
UT WoS 000389239900001
Klíčová slova anglicky plasma jet; microwave interferometry; atmospheric plasma; modulation
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 3. 4. 2018 13:49.
Anotace
Time resolved electron density in an atmospheric pressure amplitude modulated microwave plasma jet is determined using the microwave interferometry method, refined by numerical modelling of the propagation of non-planar electromagnetic waves in the vicinity of a small diameter, dense collisional plasma filament. The results are compared to those from the Stark broadening of the H-beta emission line. Both techniques show, both qualitatively and quantitatively, a similar temporal evolution of electron density during one modulation period.
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 21:06