ELECTRIC FIELD DEVELOPMENT IN gamma-MODE RF APGD IN HELIUM
Autoři
NAVRÁTIL, Zdeněk (203 Česká republika, garant, domácí), Raavo JOSEPSON (233 Estonsko, domácí), Nikola CVETANOVIC (688 Srbsko), Bratislav OBRADOVIČ (688 Srbsko) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, domácí)
Vydání
BRNO, HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT, od s. 134-136, 3 s. 2016
Nakladatel
MASARYKOVA UNIVERZITA
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání
tištěná verze "print"
Kód RIV
RIV/00216224:14310/16:00088754
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-210-8318-9
UT WoS
000393033200028
Klíčová slova anglicky
radiofrequency discharge; atmospheric pressure; helium; electric field; Stark effect
Electric field strength in helium gamma-mode RF (13.56 MHz) atmospheric pressure glow discharge was measured using Stark polarization spectroscopy. Time-correlated single photon counting was applied to record the temporal development of spectral profile of He I 492.2 nm line with a sub-nanosecond temporal resolution. Electric fields up to 32 kV/cm in the RF sheath, obtained from the fit of forbidden (2 P-1 -4 F-1) and allowed (2 P-1 - 4 D-1) helium lines, are in agreement with the spatially averaged value of 40 kV/cm estimated from homogeneous charge density RF sheath model. The observed rectangular shape of the electric field time development is attributed to increased sheath conductivity by strong electron avalanches occurring in the gamma-mode sheath at high current densities.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy