D 2016

INFLUENCE OF THE CONCENTRATION OF H-2 ON THE STRUCTURE OF A NANOSECOND DISCHARGE IN DIFFERENT H-2/AIR MIXTURES AT ATMOSPHERIC PRESSURE FOR PLASMA ASSISTED COMBUSTION APPLICATIONS

KOBAYASHI, Sumire, Zdeněk BONAVENTURA, Fabien THOLIN, Nikolay POPOV, Anne BOURDON et. al.

Základní údaje

Originální název

INFLUENCE OF THE CONCENTRATION OF H-2 ON THE STRUCTURE OF A NANOSECOND DISCHARGE IN DIFFERENT H-2/AIR MIXTURES AT ATMOSPHERIC PRESSURE FOR PLASMA ASSISTED COMBUSTION APPLICATIONS

Autoři

KOBAYASHI, Sumire (392 Japonsko), Zdeněk BONAVENTURA (203 Česká republika, garant, domácí), Fabien THOLIN (250 Francie), Nikolay POPOV (643 Rusko) a Anne BOURDON (250 Francie)

Vydání

BRNO, International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, od s. 58-62, 5 s. 2016

Nakladatel

MASARYKOVA UNIV, ZEROTINOVO NAM 9, BRNO 601 77, CZECH REPUBLIC

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

tištěná verze "print"

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00088786

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-8318-9

UT WoS

000393033200009

Klíčová slova anglicky

plasma-assisted combustion; 2D simulations; nanosecond discharge; hydrogen-air mixture; detailed chemical kinetics

Štítky

AKR, rivok
Změněno: 20. 4. 2017 10:30, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

This paper presents 2D simulations of nanosecond pulsed discharges in different H-2/air mixtures at atmospheric pressure. A fluid model is coupled with a detailed kinetic scheme to simulate the discharge dynamics between two point electrodes. For H-2/air mixtures with equivalence ratios between 0.3 and 2, it has been observed that major positive ions produced by the nanosecond discharge are N-2(+), O-2(+) and HN2+. The discharge dynamics is shown to vary only slightly with the equivalence ratio of the H-2/air mixture, which is of interest for plasma assisted combustion applications.

Návaznosti

GA15-04023S, projekt VaV
Název: Pokročilý výzkum kinetických procesů ve streamerových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilý výzkum kinetických procesů ve streamerových výbojích
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Zobrazeno: 6. 11. 2024 05:47