SOUČEK, Pavel, Josef DANIEL, Jaroslav HNILICA, Katarína BERNÁTOVÁ, Lukáš ZÁBRANSKÝ, Vilma BURŠÍKOVÁ, Monika STUPAVSKÁ a Petr VAŠINA. HiPIMS and Ni Doping Induced Structure Reinforcement and Phase Change in nc-TiC/a-C:H Coatings. In 44th ICMCTF. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název HiPIMS and Ni Doping Induced Structure Reinforcement and Phase Change in nc-TiC/a-C:H Coatings
Autoři SOUČEK, Pavel (203 Česká republika, domácí), Josef DANIEL (203 Česká republika, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovensko, domácí), Lukáš ZÁBRANSKÝ (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Monika STUPAVSKÁ (703 Slovensko, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání 44th ICMCTF, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00097358
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky magnetron sputtering; TiC; nanocomposite; doping
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D., učo 175085. Změněno: 18. 8. 2017 08:08.
Anotace
Nanocomposite coatings consisting of nanocrystallites embedded in an amorphous matrix (nc-TiC/a-C:H) can be tailored to exhibit unusual combination of properties such as high hardness and modulus combined with low friction and wear. These coatings are usually deposited utilizing direct current magnetron sputtering (DCMS) leading to low ionization of the sputtered titanium. High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) depositions usually lead to much higher ionization of the sputtered titanium which can alter the deposition process and in turn the properties of the deposited nc-TiC/a-C:H coatings.
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 19. 4. 2024 05:42