HNILICA, Jaroslav, Marta ŠLAPANSKÁ, Peter KLEIN, Matej FEKETE a Petr VAŠINA. Spokes occurrence in HiPIMS discharge at different magnetic field strengths. In Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2017. 2017. ISBN 978-80-261-0754-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Spokes occurrence in HiPIMS discharge at different magnetic field strengths
Autoři HNILICA, Jaroslav (203 Česká republika, garant, domácí), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Česká republika, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Matej FEKETE (703 Slovensko) a Petr VAŠINA (203 Česká republika).
Vydání Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition 2017, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095242
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-261-0754-5
Klíčová slova anglicky HiPIMS; spokes; titanium
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: Mgr. Marta Šlapanská, Ph.D., učo 408884. Změněno: 7. 12. 2017 15:19.
Anotace
The effect of magnetic field strength on spoke behavior was studied by high-speed camera imaging and optical emission spectroscopy (OES) in HiPIMS discharge using 3-inch titanium target. The spoke shape, number of spokes and spoke rotation velocity were observed by employed camera. The camera enabled us to record two successive images in the same pulse with time delay of 3µs between them. The time-resolved measurements of chosen Ti atom, Ti ion, Ar atom and Ar ion lines were made. The experimental conditions covered discharge current up to 350 A, pressure range of 0.15-5 Pa and magnetic fields strength of 37, 72 and 91 mT.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 02:22