FEKETE, Matej, Katarína BERNÁTOVÁ, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Evolution of Titanium Atom and Ion Density in Reactive HiPIMS - Impact on Hysteresis Curve Shape. In Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition. ISBN 978-80-261-0754-5. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Evolution of Titanium Atom and Ion Density in Reactive HiPIMS - Impact on Hysteresis Curve Shape
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovensko, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Sixteenth International Conference on Reactive Sputter Deposition, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095256
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-261-0754-5
Klíčová slova anglicky R-HiPIMS; OES; titanium
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Matej Fekete, Ph.D., učo 376265. Změněno: 11. 12. 2017 10:40.
Anotace
Likewise as the reactive dc or pulsed-dc sputtering, the R-HiPIMS undergoes hysteresis behaviour, however the hysteresis may be minimised or even suppressed by optimizing the R-HiPIMS process parameters. The exact mechanism behind the hysteresis suppression is still unknown and therefore this issue is yet highly disputed in the scientific community. In this paper, we report the evolution of the sputtered Ti atom and ion ground state densities in R-HiPIMS for both nitrogen and oxygen gasses.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 19. 4. 2024 15:55