SŤAHEL, Pavel, Mirko ČERNÁK, Zdeněk NAVRÁTIL, Martin HANIČINEC, Jaroslav JIRUŠE a Jiří FIALA. Method for reducing or removing organic and inorganic contamination from a vacuum system of imaging and analytical devices and device for carrying it out. Patent. Číslo: US9,782,805. Vydavatel: United States Patent and Trademark Office. Místo vydání: US. Název vlastníka: Masarykova univerzita, Tescan Orsay Holding a.s. Datum registrace: 29. 1. 2015. Datum přijetí: 10. 10. 2017. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Method for reducing or removing organic and inorganic contamination from a vacuum system of imaging and analytical devices and device for carrying it out
Název česky Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění
Autoři SŤAHEL, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Česká republika, domácí), Martin HANIČINEC (203 Česká republika), Jaroslav JIRUŠE (203 Česká republika) a Jiří FIALA (203 Česká republika).
Vydání Číslo: US9,782,805, Vydavatel: United States Patent and Trademark Office, Místo vydání: US, Název vlastníka: Masarykova univerzita, Tescan Orsay Holding a.s. 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Patent
Obor 20501 Materials engineering
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00100412
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky organická kontaminace snížení; zobrazovací analytické systémy
Klíčová slova anglicky organic contamination reducing; imaging analytical systems
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 6. 4. 2018 14:46.
Anotace
A method for reducing or removing organic and/or inorganic contamination from a vacuum system of imaging and analytical devices, wherein at least a portion of the area of the inner surface of the vacuum space of the vacuum system is provided with a photocatalytic layer, at least a portion of this photocatalytic layer being cooled to a temperature in the range of 0 K to 280 K, whereby the photocatalytic layer is afterwards at least partially irradiated by electromagnetic radiation, which activates a photocatalytic reaction of the photocatalytic layer with the adsorbed gases of the atmosphere of the inner vacuum space of the vacuum system, where this reaction decomposes the contaminants, reducing their concentration and/or the concentration of water in the inner vacuum space of the vacuum system.
Anotace česky
Způsob snížení nebo odstranění organické a / nebo anorganické kontaminace z vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení, přičemž alespoň část plochy vnitřního povrchu vakuového prostoru vakuového systému je opatřena fotokatalytickou vrstvou, přičemž alespoň část této fotokatalytické vrstvy je ochlazena na teplotu v rozmezí od 0 do 280 K, přičemž fotokatalytická vrstva je následně alespoň částečně ozařována elektromagnetickým zářením, který aktivuje fotokatalytickou reakci fotokatalytické vrstvy s adsorbovanými plyny atmosféru vnitřního vakuového prostoru vakuového systému, kde tato reakce rozkládá kontaminující látky, snižuje jejich koncentraci a / nebo koncentraci vody ve vnitřním vakuovém prostoru vakuového systému.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 23. 4. 2024 08:30