SŤAHEL, Pavel, Mirko ČERNÁK, Zdeněk NAVRÁTIL, Martin HANIČINEC, Jaroslav JIRUŠE and Jiří FIALA. Method for reducing or removing organic and inorganic contamination from a vacuum system of imaging and analytical devices and device for carrying it out. Online. 2017, [citováno 2024-04-23]
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Method for reducing or removing organic and inorganic contamination from a vacuum system of imaging and analytical devices and device for carrying it out
Name in Czech Způsob snížení nebo odstranění organické a anorganické kontaminace vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení a zařízení k jeho provádění
Authors SŤAHEL, Pavel (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Mirko ČERNÁK (703 Slovakia, belonging to the institution), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Martin HANIČINEC (203 Czech Republic), Jaroslav JIRUŠE (203 Czech Republic) and Jiří FIALA (203 Czech Republic)
Edition Number: US9,782,805, Publisher: United States Patent and Trademark Office, Place of publication: US, Owner's name: Masarykova univerzita, Tescan Orsay Holding a.s. 2017.
Other information
Original language English
Type of outcome Patent
Field of Study 20501 Materials engineering
Country of publisher United States of America
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
RIV identification code RIV/00216224:14310/17:00100412
Organization unit Faculty of Science
Keywords (in Czech) organická kontaminace snížení; zobrazovací analytické systémy
Keywords in English organic contamination reducing; imaging analytical systems
Tags NZ, rivok
Tags International impact, Reviewed
Changed by Changed by: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Changed: 6/4/2018 14:46.
Abstract
A method for reducing or removing organic and/or inorganic contamination from a vacuum system of imaging and analytical devices, wherein at least a portion of the area of the inner surface of the vacuum space of the vacuum system is provided with a photocatalytic layer, at least a portion of this photocatalytic layer being cooled to a temperature in the range of 0 K to 280 K, whereby the photocatalytic layer is afterwards at least partially irradiated by electromagnetic radiation, which activates a photocatalytic reaction of the photocatalytic layer with the adsorbed gases of the atmosphere of the inner vacuum space of the vacuum system, where this reaction decomposes the contaminants, reducing their concentration and/or the concentration of water in the inner vacuum space of the vacuum system.
Abstract (in Czech)
Způsob snížení nebo odstranění organické a / nebo anorganické kontaminace z vakuového systému zobrazovacích a analytických zařízení, přičemž alespoň část plochy vnitřního povrchu vakuového prostoru vakuového systému je opatřena fotokatalytickou vrstvou, přičemž alespoň část této fotokatalytické vrstvy je ochlazena na teplotu v rozmezí od 0 do 280 K, přičemž fotokatalytická vrstva je následně alespoň částečně ozařována elektromagnetickým zářením, který aktivuje fotokatalytickou reakci fotokatalytické vrstvy s adsorbovanými plyny atmosféru vnitřního vakuového prostoru vakuového systému, kde tato reakce rozkládá kontaminující látky, snižuje jejich koncentraci a / nebo koncentraci vody ve vnitřním vakuovém prostoru vakuového systému.
Links
ED2.1.00/03.0086, research and development projectName: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, research and development projectName: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Acronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministry of Education, Youth and Sports of the CR
PrintDisplayed: 23/4/2024 12:22