FALTÝNEK, Jan, Vít KUDRLE, Miroslav ŠNÍRER, Jozef TOMAN a Ondřej JAŠEK. Proceedings of 46th EPS Conference on Plasma Physics: Determination of electron density in microwave plasma torch by microwave interferometry. In 46th EPS Conference on Plasma Physics. Milan, Italy: Europhysics conference abstracts, 2019. s. 1-4. ISBN 979-1-09-638911-7.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Proceedings of 46th EPS Conference on Plasma Physics: Determination of electron density in microwave plasma torch by microwave interferometry
Autoři FALTÝNEK, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Vít KUDRLE (203 Česká republika, domácí), Miroslav ŠNÍRER (703 Slovensko, domácí), Jozef TOMAN (703 Slovensko, domácí) a Ondřej JAŠEK (203 Česká republika, domácí).
Vydání Milan, Italy, 46th EPS Conference on Plasma Physics, od s. 1-4, 4 s. 2019.
Nakladatel Europhysics conference abstracts
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Itálie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání elektronická verze "online"
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/19:00107765
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 979-1-09-638911-7
Klíčová slova anglicky microwaves; diagnostics; numerical modeling
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: Mgr. Jan Faltýnek, Ph.D., učo 356964. Změněno: 21. 11. 2019 01:04.
Anotace
The classical microwave diagnostics of typical filamentary plasma requires high frequency microwave source. This work investigates the employment of using 34.5 GHz microwave interferometry (for which the plasma density is supercritical) using the numerical modeling.
Návaznosti
GA18-08520S, projekt VaVNázev: Studium procesu nukleace dvourozměrných uhlíkových nanostruktur v mikrovlnném plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Studium procesu nukleace dvourozměrných uhlíkových nanostruktur v mikrovlnném plazmatu
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 9. 8. 2022 10:26