TUČEKOVÁ, Zlata, Lukáš VACEK, Richard KRUMPOLEC, Jakub KELAR, Mirko ČERNÁK a Filip RŮŽIČKA. MICRO-HOLLOW SURFACE DIELECTRIC BARRIER DISCHARGES FOR DECONTAMINATION OF BACTERIAL BIOFILM. In ICOPS 2018, 45th IEEE International Conference on Plasma Science. Denver (US), 24.06.2018-28.06.2018. 2018.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název MICRO-HOLLOW SURFACE DIELECTRIC BARRIER DISCHARGES FOR DECONTAMINATION OF BACTERIAL BIOFILM
Autoři TUČEKOVÁ, Zlata, Lukáš VACEK, Richard KRUMPOLEC, Jakub KELAR, Mirko ČERNÁK a Filip RŮŽIČKA.
Vydání ICOPS 2018, 45th IEEE International Conference on Plasma Science. Denver (US), 24.06.2018-28.06.2018, 2018.
Další údaje
Typ výsledku Prezentace na konferencích
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: RNDr. Zlata Kelar Tučeková, PhD., učo 454060. Změněno: 15. 1. 2020 13:04.
Anotace
A proprietary type of advanced surface dielectric barrier discharges capable to generate diffuse plasma in flowing gas mixtures with high concentration of water vapor will be presented. The robust plasma source consisted of micro-hollow plasma sources distributed on surface area 18 × 18 mm and was powered by sinusoidal high-voltage. The bactericidal effect of plasma activated gas flow on Escherichia coli, (methicillin-resistant) Staphylococcus aureus and Staphylococcus epidermidis biofilm contamination on polypropylene non-woven textile surface was investigated. The germicidal efficiency of short and long-time exposure was evaluated by standard microbiological cultivation (CFU plate counting) and fluorescence analysis using fluorescence multi-well plate reader. The test was repeated at different distances of the contaminated PP non-woven sample from the dielectric surface. The detection of reactive species in plasma activated gas flow, the optical emission spectroscopy of plasma, thermal and electrical properties of used plasma source were measured also. The bacterial biofilm decontamination efficiency increased with the rise of exposure time and the input power of the high-voltage source. The log reduction of viable biofilm units varied with the increasing distance from the dielectric surface.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TG02010067, projekt VaVNázev: Rozvoj systému komercializace výsledků VaV na Masarykově univerzitě (Akronym: Rozvoj systému komercializace na MU)
Investor: Technologická agentura ČR, Rozvoj systému komercializace výsledků VaV na Masarykově univerzitě II., Podprogram 1
16-29916A, interní kód MUNázev: Využití bakteriofágů v léčbě nozokomiálních infekcí spojených s multirezistencí či tvorbou biofilmu
Investor: Ministerstvo zdravotnictví ČR, Využití bakteriofágů v léčbě nozokomiálních infekcí spojených s multirezistencí či tvorbou biofilmu
VytisknoutZobrazeno: 19. 4. 2024 06:35