SHEKARGOFTAR, Masoud a Tomáš HOMOLA. A New Approach to the Crystallization of Perovskite Films by Cold Hydrogen Atmospheric Pressure Plasma. Plasma Chemistry and Plasma Processing. New York: Springer, roč. 40, č. 2, s. 539-548. ISSN 0272-4324. doi:10.1007/s11090-020-10059-1. 2020.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název A New Approach to the Crystallization of Perovskite Films by Cold Hydrogen Atmospheric Pressure Plasma
Autoři SHEKARGOFTAR, Masoud (364 Írán, garant, domácí) a Tomáš HOMOLA (703 Slovensko, domácí).
Vydání Plasma Chemistry and Plasma Processing, New York, Springer, 2020, 0272-4324.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 20501 Materials engineering
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 3.148
Kód RIV RIV/00216224:14310/20:00115206
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1007/s11090-020-10059-1
UT WoS 000514534500007
Klíčová slova anglicky Hydrogen plasma; Perovskite; Chemical composition; Plasma-chemical modification; Crystallization
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 30. 3. 2021 16:36.
Anotace
This contribution presents a new approach to rapid and low-temperature plasma-chemical crystallization of perovskite films. Chlorine-incorporated perovskite (MAPbI(3-x)Cl(x)) films were exposed to diffuse atmospheric hydrogen (H-2) plasma immediately after their deposition. Several types of surface characterization techniques were used to investigate the effect of the H-2 plasma on the surface of the perovskite films. Since the H-2 plasma was generated at a low temperature (<= 70 degrees C), there was no considerable damage to the plasma-treated perovskite films-although the morphology and chemistry changed significantly. H-2 plasma had a range of effects on the surface of the perovskite films: (1) changes in the chemical composition of the perovskite surface without removal of lead; (2) modification of the optoelectrical band structure; (3) crystallization of the perovskite film; and (4) the grain of the surface became highly ordered. The results presented demonstrate that H-2 plasma is a rapid and low-cost method for the manufacture of crystallized perovskite films. The method may be considered a significant step towards low-temperature, annealing-free crystallization of perovskite films.
Návaznosti
LM2015041, projekt VaVNázev: CEITEC Nano
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEITEC Nano
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 19. 4. 2024 16:33