Z 2019

Technologie pro depozici materiálu napařováním

HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Katarína BERNÁTOVÁ, Marta ŠLAPANSKÁ, Petr VAŠINA et. al.

Basic information

Original name

Technologie pro depozici materiálu napařováním

Name in Czech

Technologie pro depozici materiálu napařováním

Name (in English)

Technology for thin film deposition by arc

Authors

HNILICA, Jaroslav (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Peter KLEIN (703 Slovakia, belonging to the institution), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovakia, belonging to the institution), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Czech Republic) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic)

Edition

2019

Other information

Language

Czech

Type of outcome

Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda, plemeno

Field of Study

20506 Coating and films

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/19:00108409

Organization unit

Faculty of Science

Keywords (in Czech)

napařování obloukem; depoziční proces

Keywords in English

arc; deposition process

Technical parameters

V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv tlaku, proudu, magnetického pole, frekvence buzení a střídy na depoziční rychlost a tok iontů. Oblouk byl buzen stejnosměrně i pulzně. Navržená technologie je charakterizována těmito depozičními podmínkami: stejnosměrné buzení za tlaku 1 Pa, magnetického pole 4 A a střídy 100% a pulzní za tlaku 1 Pa, frekvenci 20 kHz a střídě 40 %.
Změněno: 24/1/2020 09:27, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.

Abstract

ORIG EN

V originále

Navržená technologie ukazuje, že použití stejnosměrného oblouku vede ke více než dvojnásobně rychlejší depozici vrstvy v porovnání s pulzním obloukem, a tedy je proces mnohem efektivnější a méně energeticky náročný. Použitím pulzního oblouku ovšem umožňuje zvýšit tok iontů o téměř jeden řád, což vyústí k přípravě mnohem kvalitnějších deponovaných vrstev (nižší drsnosti či větší hustotě), což vyústí ve větší přidanou hodnotu daných vrstev.

In English

The proposed technology shows that the use of a DC arc leads to more than twice as fast layer deposition as a pulsed arc, making the process much more efficient and less energy-consuming. However, using a pulsed arc, the ion flux is increased by almost one order, resulting in higher quality layers (lower roughness or greater density), resulting in the higher added value of the layers.

Links

TJ01000157, research and development project
Name: Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků
Investor: Technology Agency of the Czech Republic