Technologie pro depozici materiálu napařováním

HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Katarína BERNÁTOVÁ, Marta ŠLAPANSKÁ and Petr VAŠINA. Technologie pro depozici materiálu napařováním (Technology for thin film deposition by arc). 2019.

Basic information

• Original name: Technologie pro depozici materiálu napařováním
• Name in Czech: Technologie pro depozici materiálu napařováním
• Name (in English): Technology for thin film deposition by arc
• Authors: HNILICA, Jaroslav (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Peter KLEIN (703 Slovakia, belonging to the institution), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovakia, belonging to the institution), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Czech Republic) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic).
• Edition: 2019.

Other information

• Original language: Czech
• Type of outcome: Pilot plant, certified technology, variety, breed
• Field of Study: 20506 Coating and films
• Country of publisher: Czech Republic
• Confidentiality degree: is not subject to a state or trade secret
• RIV identification code: RIV/00216224:14310/19:00108409
• Organization unit: Faculty of Science
• Keywords (in Czech): napařování obloukem; depoziční proces
• Keywords in English: arc; deposition process
• Technical parameters: V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv tlaku, proudu, magnetického pole, frekvence buzení a střídy na depoziční rychlost a tok iontů. Oblouk byl buzen stejnosměrně i pulzně. Navržená technologie je charakterizována těmito depozičními podmínkami: stejnosměrné buzení za tlaku 1 Pa, magnetického pole 4 A a střídy 100% a pulzní za tlaku 1 Pa, frekvenci 20 kHz a střídě 40 %.

Abstract

Navržená technologie ukazuje, že použití stejnosměrného oblouku vede ke více než dvojnásobně rychlejší depozici vrstvy v porovnání s pulzním obloukem, a tedy je proces mnohem efektivnější a méně energeticky náročný. Použitím pulzního oblouku ovšem umožňuje zvýšit tok iontů o téměř jeden řád, což vyústí k přípravě mnohem kvalitnějších deponovaných vrstev (nižší drsnosti či větší hustotě), což vyústí ve větší přidanou hodnotu daných vrstev.

Abstract (in English)

The proposed technology shows that the use of a DC arc leads to more than twice as fast layer deposition as a pulsed arc, making the process much more efficient and less energy-consuming. However, using a pulsed arc, the ion flux is increased by almost one order, resulting in higher quality layers (lower roughness or greater density), resulting in the higher added value of the layers.

Links

• TJ01000157, research and development project: Name: Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků

Investor: Technology Agency of the Czech Republic