Deposition of Copper Halide Films for Optoelectronic Applications

KRUMPOLEC, Richard; Dominik BAČA; Jana JURMANOVÁ; Pavel KUNOVSKÝ; Josef HUMLÍČEK a David Campbell CAMERON. Deposition of Copper Halide Films for Optoelectronic Applications. 2019. ISBN 978-80-210-9487-1.

Základní údaje

Originální název

Deposition of Copper Halide Films for Optoelectronic Applications

Autoři

KRUMPOLEC, Richard; Dominik BAČA; Jana JURMANOVÁ; Pavel KUNOVSKÝ; Josef HUMLÍČEK a David Campbell CAMERON

Vydání

2019

---

Další údaje

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

ISBN

978-80-210-9487-1

Klíčová slova anglicky

atomic layer deposition, copper chloride, copper bromide, copper iodide, nucleation, film growth, nanocrystals

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Návaznosti

GA17-02328S, projekt VaV	Název: UVIHOPE Ultrafialová halogenidová optoelektronika (Akronym: UVIHOPE) Investor: Grantová agentura ČR, UVIHOPE Ultrafialová halogenidová optoelektronika
LO1411, projekt VaV	Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus) Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy