FALTÝNEK, Jan, Jaroslav HNILICA a Vít KUDRLE. MICROWAVE INTERFEROMETRY OF ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA JET. In Cernak, M Hoder, T. HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT. BRNO: MASARYKOVA UNIV. s. 152-154. ISBN 978-80-210-8318-9. 2016.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název MICROWAVE INTERFEROMETRY OF ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA JET
Autoři FALTÝNEK, Jan (203 Česká republika, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Vít KUDRLE (203 Česká republika, domácí).
Vydání BRNO, HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT, od s. 152-154, 3 s. 2016.
Nakladatel MASARYKOVA UNIV
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10403 Physical chemistry
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání elektronická verze "online"
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00113666
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8318-9
UT WoS 000393033200033
Klíčová slova anglicky plasma diagnostics; microwave interferometry; plasma jet
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 18. 4. 2020 15:30.
Anotace
Using numerical modeling the microwave interferometry was refined to enable the measurements of electron density in dense, filamentary atmospheric pressure plasmas. The approach includes the wave scattering, collision losses, inhomogeneities in probing electromagnetic field and other factors which are often neglected in plasma interferometry.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 18. 4. 2024 15:47