KRUMPOLEC, Richard, Jana JURMANOVÁ, Miroslav ZEMÁNEK, Jakub KELAR, Dušan KOVÁČIK a Mirko ČERNÁK. Selective Plasma Etching of Polymer-Metal Mesh Foil in Large-Area Hydrogen Atmospheric Pressure Plasma. Applied Sciences. Basel: MDPI, 2020, roč. 10, č. 20, s. 1-11. ISSN 2076-3417. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.3390/app10207356.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Selective Plasma Etching of Polymer-Metal Mesh Foil in Large-Area Hydrogen Atmospheric Pressure Plasma
Autoři KRUMPOLEC, Richard (703 Slovensko, domácí), Jana JURMANOVÁ (203 Česká republika, domácí), Miroslav ZEMÁNEK (203 Česká republika, domácí), Jakub KELAR (203 Česká republika, garant, domácí), Dušan KOVÁČIK (703 Slovensko, domácí) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí).
Vydání Applied Sciences, Basel, MDPI, 2020, 2076-3417.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Švýcarsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 2.679
Kód RIV RIV/00216224:14310/20:00114855
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.3390/app10207356
UT WoS 000582866300001
Klíčová slova anglicky hydrogen plasma; atmospheric pressure plasma; selective etching; polymer-metal mesh composite foil; roll-to-roll processing
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 29. 4. 2021 17:28.
Anotace
We present a novel method of surface processing of complex polymer-metal composite substrates. Atmospheric-pressure plasma etching in pure H-2, N-2, H-2/N-2 and air plasmas was used to fabricate flexible transparent composite poly(methyl methacrylate) (PMMA)-based polymer film/Ag-coated Cu metal wire mesh substrates with conductive connection sites by the selective removal of the thin (similar to 10-100 nm) surface PMMA layer. To mimic large-area roll-to-roll processing, we used an advanced alumina-based concavely curved electrode generating a thin and high-power density cold plasma layer by the diffuse coplanar surface barrier discharge. A short 1 s exposure to pure hydrogen plasma, led to successful highly-selective etching of the surface PMMA film without any destruction of the Ag-coated Cu metal wires embedded in the PMMA polymer. On the other hand, the use of ambient air, pure nitrogen and H-2/N-2 plasmas resulted in undesired degradation both of the polymer and the metal wires surfaces. Since it was found that the etching efficiency strongly depends on the process parameters, such as treatment time and the distance from the electrode surface, we studied the effect and performance of these parameters.
Návaznosti
LM2018097, projekt VaVNázev: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications
TJ01000327, projekt VaVNázev: Komercializace redukčního plazmatu generovaného při atmosférickém tlaku pro in-line průmyslné aplikace
Investor: Technologická agentura ČR, Komercializace redukčního plazmatu generovaného při atmosférickém tlaku pro in-line průmyslné aplikace
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 14:15