Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů

ČADA, Martin, Zdeněk HUBIČKA, Jaroslav HNILICA, Peter KLEIN and Petr VAŠINA. Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů (Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages). 2020.

Basic information

• Original name: Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
• Name in Czech: Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
• Name (in English): Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages
• Authors: ČADA, Martin (203 Czech Republic), Zdeněk HUBIČKA (203 Czech Republic), Jaroslav HNILICA (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Peter KLEIN (703 Slovakia, belonging to the institution) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic, belonging to the institution).
• Edition: 2020.

Other information

• Original language: Czech
• Type of outcome: Outcomes put into operation (prototype, working sample)
• Field of Study: 20506 Coating and films
• Country of publisher: Czech Republic
• Confidentiality degree: is not subject to a state or trade secret
• RIV identification code: RIV/00216224:14310/20:00114917
• Organization unit: Faculty of Science
• Keywords in English: Sputtering; thin films; plasma; deposition; deposition rate; pulse package; ionization fraction
• Technical parameters: V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv délky pulzu, vzdálenosti mezi pulzy a počet pulzů. Navržený funkční vzorek je charakterizován těmito depozičními podmínkami: materiál terče titan, střední výkon 1 kW, tlak 1 Pa, délka pulzu 30 us, vzdálenost mezi pulzy v balíčku 20us, počet pulzů 4, magnetické pole otevřené.

Abstract

V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic.

Abstract (in English)

As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same.

Links

• TN01000038, research and development project: Name: Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace (Acronym: MATCA)

Investor: Technology Agency of the Czech Republic