G 2020

Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů

ČADA, Martin, Zdeněk HUBIČKA, Jaroslav HNILICA, Peter KLEIN, Petr VAŠINA et. al.

Basic information

Original name

Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů

Name in Czech

Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů

Name (in English)

Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages

Authors

ČADA, Martin (203 Czech Republic), Zdeněk HUBIČKA (203 Czech Republic), Jaroslav HNILICA (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Peter KLEIN (703 Slovakia, belonging to the institution) and Petr VAŠINA (203 Czech Republic, belonging to the institution)

Edition

2020

Other information

Language

Czech

Type of outcome

Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)

Field of Study

20506 Coating and films

Country of publisher

Czech Republic

Confidentiality degree

není předmětem státního či obchodního tajemství

RIV identification code

RIV/00216224:14310/20:00114917

Organization unit

Faculty of Science

Keywords in English

Sputtering; thin films; plasma; deposition; deposition rate; pulse package; ionization fraction

Technical parameters

V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv délky pulzu, vzdálenosti mezi pulzy a počet pulzů. Navržený funkční vzorek je charakterizován těmito depozičními podmínkami: materiál terče titan, střední výkon 1 kW, tlak 1 Pa, délka pulzu 30 us, vzdálenost mezi pulzy v balíčku 20us, počet pulzů 4, magnetické pole otevřené.
Změněno: 16/2/2021 07:55, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.

Abstract

ORIG EN

V originále

V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic.

In English

As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same.

Links

TN01000038, research and development project
Name: Národní centrum kompetence pro materiály, pokročilé technologie, povlakování a jejich aplikace (Acronym: MATCA)
Investor: Technology Agency of the Czech Republic