J 1996

Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses

ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Ivan OHLÍDAL a Jan JANČA

Základní údaje

Originální název

Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika)

Vydání

Thin Solid Films, UK Oxford, Elsevier science, 1996, 0040-6090

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/96:00000441

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

PECVD; TEOS

Štítky

PECVD, TEOS

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 17. 7. 2007 17:04, doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D.

Návaznosti

MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Zobrazeno: 4. 11. 2024 15:55