ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Ivan OHLÍDAL a Jan JANČA. Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses. Online. Thin Solid Films. UK Oxford: Elsevier science, 1996, roč. 1996, č. 280, s. 26-36. ISSN 0040-6090. [citováno 2024-04-24]
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses
Autoři ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika) a Jan JANČA (203 Česká republika)
Vydání Thin Solid Films, UK Oxford, Elsevier science, 1996, 0040-6090.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/96:00000441
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky PECVD; TEOS
Štítky PECVD, TEOS
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 17:04.
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 08:11