DVOŘÁK, Pavel, Radek ŽEMLIČKA, Roman PŘIBYL, Maroš TKÁČIK, Juraj PÁLENIK, Petr VAŠINA, Petr SKOPAL, Zdeněk NAVRÁTIL and Vilma BURŠÍKOVÁ. Higher harmonic frequencies of discharge voltage and current in a capacitively coupled plasma. In 31st SPIG (Summer school and International Symposium on the Physics of Ionized Gases). 2022.
Other formats:   BibTeX LaTeX RIS
Basic information
Original name Higher harmonic frequencies of discharge voltage and current in a capacitively coupled plasma
Name in Czech Vyšší harmonické frekvence výbojového napětí a proudu v kapacitně vázaném plazmatu
Authors DVOŘÁK, Pavel (203 Czech Republic, guarantor, belonging to the institution), Radek ŽEMLIČKA (203 Czech Republic), Roman PŘIBYL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Maroš TKÁČIK (703 Slovakia), Juraj PÁLENIK (703 Slovakia), Petr VAŠINA (203 Czech Republic, belonging to the institution), Petr SKOPAL (203 Czech Republic, belonging to the institution), Zdeněk NAVRÁTIL (203 Czech Republic, belonging to the institution) and Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Czech Republic, belonging to the institution).
Edition 31st SPIG (Summer school and International Symposium on the Physics of Ionized Gases), 2022.
Other information
Original language English
Type of outcome Requested lectures
Field of Study 10305 Fluids and plasma physics
Country of publisher Czech Republic
Confidentiality degree is not subject to a state or trade secret
WWW URL
Organization unit Faculty of Science
Keywords (in Czech) vyšší harmonické frekvence;plazma;kapacitně vázané výboje
Keywords in English higher harmonic frequencies;plasma;capacitively coupled discharges
Tags International impact
Changed by Changed by: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Changed: 15/7/2024 10:42.
Abstract
The current-voltage characteristics of capacitively coupled discharges has nonlinear character, which is caused by sheaths and which leads to generation of higher harmonic frequencies of discharge current and voltage. Higher harmonics are strong especially at low pressure. Higher harmonics influence the behaviour of the plasma and, at the same time, they sensitively react on number of discharge parameters, which enables to use them for monitoring of various deposition and etching processes. The presentation summarizes several topics related to higher harmonic frequencies, namely the problematics of probe measurement of the high-frequency components of plasma potential, modeling of generation of higher harmonics and analysis why higher harmonics react so sensitively on the presence of a thin film during deposition/etching processes.
Abstract (in Czech)
Zvaná přednáška shrnula několik let výzkumu vyšších harmonických frekvencí, které jsou spontánně generované v kapacitně vázaném plazmatu díky nelinearitě elektrických vlastností plazmatu. Přednáška shrnula vznik vyšších harmonických frekvencí, způsob jejich měření a problematiku Langmuirovy sondy bez vf. kompenzace, výpočet vyšších harmonických měření a jejich chování v řadě případů a na závěr důvod reakce vyšších harmonik na vznik nebo odleptání tenké vrstvy v plazmatických procesech.
Links
GA19-15240S, research and development projectName: Multifunkční nanokompozitní polymerní tenké vrstvy s řízenými povrchovými a mechanickými vlastnostmi připravené v RF prachovém plazmatu
Investor: Czech Science Foundation
90097, large research infrastructuresName: CEPLANT
PrintDisplayed: 26/7/2024 15:25