ZAJÍČKOVÁ, Lenka, Jan JANČA a Vratislav PERINA. Characterisation of Silicon Oxide Thin Films Deposited by Plasma Enhanced CVD from Octamethylcyclotetrasiloxane/Oxygen Feeds. Thin Solid Films. New York: Elsevier, roč. 338, č. 1, s. 49-59. ISSN 0042-6090/99. 1999.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Characterisation of Silicon Oxide Thin Films Deposited by Plasma Enhanced CVD from Octamethylcyclotetrasiloxane/Oxygen Feeds
Název česky Charakterizace tenkých vrstev oxidu křemíku připravených metodou PECVD z oktametylcyklotetrasiloxanu ve směsi s kyslíkem
Autoři ZAJÍČKOVÁ, Lenka (203 Česká republika, garant), Jan JANČA (203 Česká republika) a Vratislav PERINA.
Vydání Thin Solid Films, New York, Elsevier, 1999, 0042-6090/99.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/99:00002175
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS 000078758500009
Klíčová slova anglicky PECVD; OMTS
Štítky OMTS, PECVD
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: doc. Mgr. Lenka Zajíčková, Ph.D., učo 1414. Změněno: 17. 7. 2007 15:09.
Anotace
Characterisation of Silicon Oxide Thin Films Deposited by Plasma Enhanced CVD from Octamethylcyclotetrasiloxane/Oxygen Feeds
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 20. 4. 2024 02:31