ŠÍCHA, Miloš, Vratislav KAPIČKA, Antonín BRABLEC, Miloš KLÍMA, Pavel SLAVÍČEK, Robert VACULÍK a J.F. BEHNKE. The plasma diagnostics of the RF torch discharge plasma chemical system. Online. In International Symposium, on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry- HAKONE VII, Greifswald-Germany 2000, Contributed Papers. Greifswald: University E.- M. Arndt Greifswald, 2000. s. 509-512. ISBN 3-00-006603-9. [citováno 2024-04-24]
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název The plasma diagnostics of the RF torch discharge plasma chemical system
Autoři ŠÍCHA, Miloš, Vratislav KAPIČKA (203 Česká republika), Antonín BRABLEC (203 Česká republika, garant), Miloš KLÍMA (203 Česká republika), Pavel SLAVÍČEK (203 Česká republika), Robert VACULÍK (203 Česká republika) a J.F. BEHNKE
Vydání Greifswald, International Symposium, on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry- HAKONE VII, Greifswald-Germany 2000, Contributed Papers, s. 509-512, 2000.
Nakladatel University E.- M. Arndt Greifswald
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/00:00002787
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 3-00-006603-9
Klíčová slova anglicky Torch discharge plasma; surface treatmnet; plasma diagnostics
Štítky plasma diagnostics, surface treatmnet, Torch discharge plasma
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Slavíček, Ph.D., učo 2220. Změněno: 17. 7. 2008 11:01.
Anotace
The possibility to use of special configuration of the torch discharge burning in mixture of argon and n-hexan for deposition of CH thin films on Al and Cu substrate is reported. Basic parameters of the diacharge is studied using emission spectroscopy.
Návaznosti
MSM 143100003, záměrNázev: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 12:00