DVOŘÁK, Pavel, Lenka ZAJÍČKOVÁ a Vilma BURŠÍKOVÁ. Plazmová depozice ochranných vrstev na bázi uhlíku. In Materiálové vědy na prahu 3. milénia. Brno: Vysoké učení technické v Brně, FSE, UMI, 1999, s. 314-315. ISBN 80-214-1376-X.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Plazmová depozice ochranných vrstev na bázi uhlíku
Název anglicky PECVD of protection coatings containing carbon
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika), Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika) a Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, garant).
Vydání Brno, Materiálové vědy na prahu 3. milénia, s. 314-315, 1999.
Nakladatel Vysoké učení technické v Brně, FSE, UMI
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/99:00004161
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 80-214-1376-X
Klíčová slova anglicky PECVD; carbon; DLC; DLC:Si
Štítky Carbon, DLC, DLC:Si, PECVD
Změnil Změnila: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D., učo 2418. Změněno: 8. 2. 2008 19:49.
Anotace
Z plazmatu kapacitně vázaného vf. výboje jsme deponovali tenké vrstvy na bázi uhlíku. Srovnávali jsme optické vlastnosti vrstev deponovaných ze směsi metanu a argonu s vrstvami deponovanými ze směsi HMDSO + metan a HMDSO + metan + Ar.
Anotace anglicky
Carbon films were deposited in capacitively coupled rf glow discharge from several different mixtures on silicon substrates. We compared optical properties in UV-VIS range of diamond like films deposited from mixture of methane and argon with these for carbon films deposited from HMDSO/methane and HMDSO/methane/Ar feeds.
Návaznosti
GV106/96/K245, projekt VaVNázev: Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
Investor: Grantová agentura ČR, Tvrdé a supertvrdé povlaky vytvořené nekonvenčními plazmovými procesy
VS96084, projekt VaVNázev: Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
VytisknoutZobrazeno: 30. 9. 2024 22:07